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发明公开
紫外线照射装置、状态评估装置以及被照射物的处理系统审中-公开

公开(公告)号：CN118730987A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410110658.1

申请日：2024-01-26

Applicant: 东芝照明技术株式会社

Inventor： 阿部周平 , 日野弘喜 , 樱井公人 , 前田晶子 , 竹村真也 , 安斋爱子 , 伊东慧

IPC: G01N21/64 , G01N21/01 , A61L2/10

Abstract: 本发明提供一种能够对被照射物照射有效防腐的光量的紫外线的紫外线照射装置、能够对被照射物中的紫外线照射量进行评估的状态评估装置以及被照射物的处理系统。根据实施方式，紫外线照射装置具有发光器及处理器。发光器发出对被照射物照射的200nm至300nm波长的紫外线。处理器对于由搬送装置所搬送的被照射物，在周围温度为5℃至30℃且相对湿度为90％RH的环境下，以成为50mJ/cm2以上的照射量的方式来照射发光器所发出的紫外线。

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