公开(公告)号：CN103080292A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201180040073.8

申请日：2011-07-19

Applicant: 东洋钢钣株式会社 ,  钢钣工业株式会社

Inventor： 岩元畅宏 ,  迎展彰 ,  新井一隆 ,  小谷竜二

IPC: C11D7/20 ,  B24B37/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: C11D17/0013 ,  B24B37/04 ,  C09G1/02 ,  C11D3/124 ,  C11D3/14 ,  C11D7/20 ,  C11D11/0041 ,  G11B5/8404

Abstract: 提供了用于生产其中不残留磨料粒并且在其表面上不形成凹坑缺陷的硬盘基材的冲洗剂；以及利用该冲洗剂生产硬盘基材的方法。该冲洗剂是含有胶态二氧化硅作为磨料粒的冲洗溶液，其中胶态二氧化硅磨料粒的浓度(C)和胶态二氧化硅磨料粒的平均粒径(R)(C和R分别由wt％和nm表示)具有满足以下式(1)的关系：R≥2.2C+18.2。