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公开(公告)号:CN112861303B
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202011277601.9
申请日:2020-11-16
Applicant: 东南大学
IPC: G06F30/20 , G06F119/18
Abstract: 本发明公开了一种预测低维MXenes可合成性的理论方法。属于低维材料性质模拟计算领域,该方法首先通过建模软件构建多种MAX相模型,然后运用VASP软件进行结构优化和静态自洽计算,得到每个系统的能量值和电子结构数据,接着从两个角度定义剥离能,并以剥离能从理论上待预测MAX材料的剥离难度。最后运用VASP软件进行非静态自洽计算,绘制体系的态密度图和电荷密度图,分析材料属性和成键强度,筛选出理论上可合成的低维MXenes组成。本发明避免了传统的实验试错法,为低维MXenes材料合成的可能性提供了理论预测方法,有效地缩短了研发周期和成本。
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公开(公告)号:CN118520824A
公开(公告)日:2024-08-20
申请号:CN202410426172.9
申请日:2024-04-10
Applicant: 东南大学
IPC: G06F30/3308
Abstract: 本发明公开了一种基于MXene‑TMDs异质结的二维FET模型的构建方法,包括以下步骤:选取不同组分分别构建TMDs、MXene的模型;计算TMDs、MXene模型的功函数并筛选欧姆接触的组成;构建MXene‑TMDs范德华异质结并探索对应的电子性质和界面接触等性质;筛选出热力学稳定、纵向欧姆接触和隧穿势垒较小的异质结;基于异质结构建二维场效应晶体管器件模型,包含电子输运性质,如零偏压传输谱、PLDOS以及接触电阻,从而筛选最优的二维FET器件模型。本发明利用MXene与TMDs之间的范德华作用,在保证欧姆接触的同时获得更小的隧穿势垒、更高的载流子注入效率,实现更低接触电阻的二维FET器件。
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公开(公告)号:CN112861303A
公开(公告)日:2021-05-28
申请号:CN202011277601.9
申请日:2020-11-16
Applicant: 东南大学
IPC: G06F30/20 , G06F119/18
Abstract: 本发明公开了一种预测低维MXenes可合成性的理论方法。属于低维材料性质模拟计算领域,该方法首先通过建模软件构建多种MAX相模型,然后运用VASP软件进行结构优化和静态自洽计算,得到每个系统的能量值和电子结构数据,接着从两个角度定义剥离能,并以剥离能从理论上待预测MAX材料的剥离难度。最后运用VASP软件进行非静态自洽计算,绘制体系的态密度图和电荷密度图,分析材料属性和成键强度,筛选出理论上可合成的低维MXenes组成。本发明避免了传统的实验试错法,为低维MXenes材料合成的可能性提供了理论预测方法,有效地缩短了研发周期和成本。
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