公开(公告)号：CN109210032B

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN201810736213.9

申请日：2018-07-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上田雄大 ,  赤尾健司

IPC: F15B15/14

Abstract: 本发明提供一种气缸。气缸(10)包括缸体(21)、活塞杆(24)、活塞(25)和控制部(11)。活塞杆(24)的一端配置在缸体(21)内，另一端从缸体(21)突出。活塞(25)设置在活塞杆(24)的一端，通过在缸体(21)内的移动而使活塞杆(24)移动。控制部11)对空间(S1)和空间(S2)这两者中的一者的空间内供给被压缩了的气体并从另一者的空间内吸引气体，其中，空间(S1)是比活塞(25)靠活塞杆(24)侧的缸体(21)内的空间，空间(S2)是隔着活塞(25)位于与空间(S1)相反一侧的缸体(21)内的空间。由此能够提高气缸的推力。

公开(公告)号：CN109210032A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201810736213.9

申请日：2018-07-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上田雄大 ,  赤尾健司

IPC: F15B15/14

Abstract: 本发明提供一种气缸。气缸(10)包括缸体(21)、活塞杆(24)、活塞(25)和控制部(11)。活塞杆(24)的一端配置在缸体(21)内，另一端从缸体(21)突出。活塞(25)设置在活塞杆(24)的一端，通过在缸体(21)内的移动而使活塞杆(24)移动。控制部11)对空间(S1)和空间(S2)这两者中的一者的空间内供给被压缩了的气体并从另一者的空间内吸引气体，其中，空间(S1)是比活塞(25)靠活塞杆(24)侧的缸体(21)内的空间，空间(S2)是隔着活塞(25)位于与空间(S1)相反一侧的缸体(21)内的空间。由此能够提高气缸的推力。

公开(公告)号：CN117678062A

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN202280050917.5

申请日：2022-07-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永山晃 ,  川端淳史 ,  高山将步 ,  河西晃士 ,  赤尾健司

IPC: H01L21/683 ,  H05H1/46 ,  H02N13/00

Abstract: 基片支承器包括：基座；配置在所述基座的上部的第一电介质部，其用于载置基片；和以包围所述第一电介质部的方式配置的第二电介质部，其用于载置边缘环，所述第一电介质部和所述第二电介质部中的至少任一者包括由绝缘性材料形成的喷镀层。基片处理装置包括：等离子体处理腔室；和设置在所述等离子体处理腔室的内部的所述基片支承器。