公开(公告)号：CN100452294C

公开(公告)日：2009-01-14

申请号：CN200480036496.2

申请日：2004-11-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 筱塚真一 ,  和田荣希 ,  山下刚秀

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67745 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: 本发明的目的是在具有检查部的涂布显影处理装置中，缩短进行准备所需要的时间、降低成本，进而提高检查部的运行率。在本发明中，将涂布显影处理装置的控制程序设计成能够独立实施以下流程：将基板从晶片盒工作站送入处理工作站，在处理工作站和曝光装置中进行处理之后送回晶片盒工作站的处理流程；以及将基板从晶片盒工作站送入检查工作站，进行检查之后送回晶片盒工作站的检查流程。在进行涂布显影处理装置的准备工作时，能够实施检查流程和处理流程，同时进行检查工作站的检查单元的评价作业以及处理工作站的处理单元的调整作业。检查工作站空闲时，能够从外部将基板送入晶片盒工作站对其进行检查。

公开(公告)号：CN1890780A

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：CN200480036496.2

申请日：2004-11-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 筱塚真一 ,  和田荣希 ,  山下刚秀

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67745 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: 本发明的目的是在具有检查部的涂布显影处理装置中，缩短进行准备所需要的时间、降低成本，进而提高检查部的运行率。在本发明中，将涂布显影处理装置的控制程序设计成能够独立实施以下流程：将基板从晶片盒工作站送入处理工作站，在处理工作站和曝光装置中进行处理之后送回晶片盒工作站的处理流程；以及将基板从晶片盒工作站送入检查工作站，进行检查之后送回晶片盒工作站的检查流程。在进行涂布显影处理装置的准备工作时，能够实施检查流程和处理流程，同时进行检查工作站的检查单元的评价作业以及处理工作站的处理单元的调整作业。检查工作站空闲时，能够从外部将基板送入晶片盒工作站对其进行检查。