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公开(公告)号：CN108109940A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201711188858.5
申请日：2017-11-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明在变更设定温度时，不需要长时间而使用小容量的供电设备，使载置基片的载置台等的被加热体升温至变更后的设定温度。本发明的对基片进行处理的基片处理装置包括：PM400a～d，其具有对载置基片的载置台等的被加热体进行加热的加热部；和控制器300a～d，其具有温度控制部，上述温度控制部将加热部的驱动功率限制为容许功率以下并控制加热部将被加热体的温度调整至设定温度，温度控制部具有使驱动功率成为比容许功率低的限制功率以下的限制功能，在被加热体的设定温度变更了的情况下、将被加热体升温至变更后的设定温度的步骤中，上述限制功能是有效的，其中上述设定温度变更了的情况包括基片处理装置的启动时在内。
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公开(公告)号：CN114365273A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080062638.1
申请日：2020-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 一种真空搬送装置，配置于工艺腔室与加载互锁室之间，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板，所述真空搬送装置具备容器、搬送装置、排气装置、露点计以及控制装置。容器经由闸阀来与工艺腔室及加载互锁室分别连接。搬送装置设置于容器内，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板。排气装置用于排出容器内的气体。露点计测定容器内的气体的露点温度。控制装置基于由露点计测定出的露点温度来判定是否为能够执行工艺的状态，在成为了能够执行工艺的状态的情况下，控制装置向真空搬送装置的用户通知该意思。
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公开(公告)号：CN108109940B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201711188858.5
申请日：2017-11-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明在变更设定温度时，不需要长时间而使用小容量的供电设备，使载置基片的载置台等的被加热体升温至变更后的设定温度。本发明的对基片进行处理的基片处理装置包括：PM400a～d，其具有对载置基片的载置台等的被加热体进行加热的加热部；和控制器300a～d，其具有温度控制部，上述温度控制部将加热部的驱动功率限制为容许功率以下并控制加热部将被加热体的温度调整至设定温度，温度控制部具有使驱动功率成为比容许功率低的限制功率以下的限制功能，在被加热体的设定温度变更了的情况下、将被加热体升温至变更后的设定温度的步骤中，上述限制功能是有效的，其中上述设定温度变更了的情况包括基片处理装置的启动时在内。
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公开(公告)号：CN110943010A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910912500.5
申请日：2019-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石桥诚之
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。在减压环境下对被处理体进行规定的处理的真空处理装置具有：处理模块，其形成有真空处理室，真空处理室的室内被减压，在真空处理室内对被处理体进行规定的处理；真空搬送模块，其形成有以与真空处理室之间隔着隔断阀的方式设置的真空搬送室，真空搬送室的室内被保持为减压状态且设置有用于搬送被处理体的搬送机构；气体供给机构，其向真空搬送室供给至少用于防止氧化的规定的气体；以及控制部，其控制气体供给机构，其中，在空闲状态下，控制部控制气体供给机构以向真空搬送室供给规定的气体，进行调整以使空闲状态下的真空搬送室的氧浓度比将真空搬送室设为抽真空状态的情况下的氧浓度低。
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公开(公告)号：CN100458629C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200380100227.3
申请日：2003-11-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D16/20
Abstract: 该处理装置具有：具有载置被处理体W的载置台(8)的处理容器(4)；导入处理气体的气体导入装置(10)；供给规定处理气体的处理气体供给系统(14、16、18)；供给非活性气体的非活性气体供给系统(12)；设置阀开度可以控制的压力控制阀(36)与真空泵(38)的真空排气系统(32)；压力计(48)。在进行处理气体的分压重要的处理时，流出固定流量的处理气体，同时根据压力计(48)的检测值控制压力控制阀(36)的阀开度，而在进行处理气体的分压不太重要的处理时，使压力控制阀(36)的阀开度固定为规定值，同时根据压力计(48)的检测值控制非活性气体的供给量。因此，在进行处理压力的范围差异较大的多种处理时，也可以准确地对各个处理时的压力进行控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119725187A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411668422.6
申请日：2020-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 一种真空搬送装置和真空搬送装置的控制方法，该真空搬送装置配置于工艺腔室与加载互锁室之间，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板，所述真空搬送装置具备容器、搬送装置、排气装置、露点计以及控制装置。容器经由闸阀来与工艺腔室及加载互锁室分别连接。搬送装置设置于容器内，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板。排气装置用于排出容器内的气体。露点计测定容器内的气体的露点温度。控制装置基于由露点计测定出的露点温度来判定是否为能够执行工艺的状态，在成为了能够执行工艺的状态的情况下，控制装置向真空搬送装置的用户通知该意思。
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公开(公告)号：CN106992137B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201611097180.5
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明提供搬送被处理体的搬送装置，取得考虑了伴随随着时间经过发生的温度变化的搬送臂的热膨胀、收缩和变形这样的形状变化的位置信息，以比现有技术更高的精度将被处理体载置于正确的位置。其包括：转动驱动机构，使第一臂和第二臂被转动驱动，并使保持部在待机位置与搬送位置之间移动；检测第一臂和第二臂的转动角度的转动角检测机构；检测第二臂的位置的位置检测传感器；根据由转动角检测机构检测的所述第一臂和所述第二臂的转动角度计算所述保持部的位置的计算部；和将由计算部计算出的所述保持部的位置信息与由所述位置检测传感器检测到的第二臂的位置信息进行比较，根据两者的差对搬送搬送对象物的搬送位置实施校正的控制部。
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公开(公告)号：CN106992137A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201611097180.5
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明提供搬送被处理体的搬送装置，取得考虑了伴随随着时间经过发生的温度变化的搬送臂的热膨胀、收缩和变形这样的形状变化的位置信息，以比现有技术更高的精度将被处理体载置于正确的位置。其包括：转动驱动机构，使第一臂和第二臂被转动驱动，并使保持部在待机位置与搬送位置之间移动；检测第一臂和第二臂的转动角度的转动角检测机构；检测第二臂的位置的位置检测传感器；根据由转动角检测机构检测的所述第一臂和所述第二臂的转动角度计算所述保持部的位置的计算部；和将由计算部计算出的所述保持部的位置信息与由所述位置检测传感器检测到的第二臂的位置信息进行比较，根据两者的差对搬送搬送对象物的搬送位置实施校正的控制部。
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公开(公告)号：CN114365273B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202080062638.1
申请日：2020-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 一种真空搬送装置，配置于工艺腔室与加载互锁室之间，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板，所述真空搬送装置具备容器、搬送装置、排气装置、露点计以及控制装置。容器经由闸阀来与工艺腔室及加载互锁室分别连接。搬送装置设置于容器内，用于在工艺腔室与加载互锁室之间搬送基板。排气装置用于排出容器内的气体。露点计测定容器内的气体的露点温度。控制装置基于由露点计测定出的露点温度来判定是否为能够执行工艺的状态，在成为了能够执行工艺的状态的情况下，控制装置向真空搬送装置的用户通知该意思。
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公开(公告)号：CN110943010B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201910912500.5
申请日：2019-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石桥诚之
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。在减压环境下对被处理体进行规定的处理的真空处理装置具有：处理模块，其形成有真空处理室，真空处理室的室内被减压，在真空处理室内对被处理体进行规定的处理；真空搬送模块，其形成有以与真空处理室之间隔着隔断阀的方式设置的真空搬送室，真空搬送室的室内被保持为减压状态且设置有用于搬送被处理体的搬送机构；气体供给机构，其向真空搬送室供给至少用于防止氧化的规定的气体；以及控制部，其控制气体供给机构，其中，在空闲状态下，控制部控制气体供给机构以向真空搬送室供给规定的气体，进行调整以使空闲状态下的真空搬送室的氧浓度比将真空搬送室设为抽真空状态的情况下的氧浓度低。
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