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发明公开
等离子体处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN115775715A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211038728.4

申请日：2022-08-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 舆水地盐 , 石桥淳治 , 有吉文彬 , 箱崎翔 , 熊谷史记

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种抑制喷淋头的多个气孔中的气体的解离的等离子体处理装置，其包括腔室、基片支承部、上部电极和至少一个电源。腔室在其内部提供处理空间。基片支承部设置于腔室内。上部电极构成从处理空间上方对处理空间导入气体的喷淋头。上部电极包括第一电极和第二电极。第一电极提供朝向处理空间开口的多个第一气孔。第二电极直接或间接地设置于第一电极上，提供与多个第一气孔分别连通的多个第二气孔。至少一个电源构成为能够将第二电极的电位设定为相对于第一电极电位更靠正侧的电位。

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