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公开(公告)号:CN105379428B
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201480038871.0
申请日:2014-07-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32165 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32816 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/02104 , H01L21/3065 , H01L21/67069
Abstract: 等离子体处理装置包括:形成有使内部空间与处理空间连通的连通孔的电介质部件;隔着内部空间的第一电极和第二电极;将第一处理气体供给到内部空间的第一气体供给机构;第一高频电源,其将第一高频电力供给到第一电极和第二电极中的至少任一者,生成第一处理气体的第一等离子体;减压机构,其将第一等离子体中的自由基和第一处理气体导入至处理空间;第二高频电源,其供给第二高频电力,生成第一处理气体的第二等离子体,并将离子引入至被处理体;和控制部,其控制第一高频电力的全部电功率的大小,调整第二等离子体中的自由基量,控制第一高频电力的比率,调整第二等离子体中的离子量。
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公开(公告)号:CN105379428A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201480038871.0
申请日:2014-07-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32165 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32816 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/02104 , H01L21/3065 , H01L21/67069
Abstract: 等离子体处理装置包括:形成有使内部空间与处理空间连通的连通孔的电介质部件;隔着内部空间的第一电极和第二电极;将第一处理气体供给到内部空间的第一气体供给机构;第一高频电源,其将第一高频电力供给到第一电极和第二电极中的至少任一者,生成第一处理气体的第一等离子体;减压机构,其将第一等离子体中的自由基和第一处理气体导入至处理空间;第二高频电源,其供给第二高频电力,生成第一处理气体的第二等离子体,并将离子引入至被处理体;和控制部,其控制第一高频电力的全部电功率的大小,调整第二等离子体中的自由基量,控制第一高频电力的比率,调整第二等离子体中的离子量。
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