-
公开(公告)号：CN117441228A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202280038529.5
申请日：2022-04-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/8234 , H01L21/02 , H01L21/768 , H01L21/311
Abstract: 披露了一种方法，该方法包括提供衬底，该衬底具有源极/漏极区和在该源极/漏极区上的蚀刻停止层。使用蚀刻气体进行等离子体蚀刻工艺，该蚀刻气体除去该蚀刻停止层并在该源极/漏极区上形成牺牲氧化物覆盖层。该牺牲氧化物覆盖层则来自该源极/漏极区。
Search Results
1
records
(took 0.019 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
