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公开(公告)号：CN1755526A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510107965.1
申请日：2005-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供了一种在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统，能够在各个基板上均匀地涂布处理液，还能够提高与曝光装置连动时的基板处理生产率。在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统(100)中，具有：涂布膜形成装置，该装置具有分别载置被处理基板的第一台面(50)和第二台面(59)，以及在分别载置在上述第一台面(50)和第二台面(59)上的被处理基板表面上涂布处理液，形成膜的处理液涂布装置；基板输送装置(42a)，(42b)，相对于多个曝光装置(4a)，(4b)，而对通过上述涂布膜形成装置形成有膜的被处理基板进行输送。
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