一种涂层形成装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1275701C

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN02154348.8

    申请日:2002-11-26

    CPC classification number: H01L21/6715 B05B13/041 B05C5/0208 B05C11/1013

    Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定,在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5),喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端,在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分,其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分,使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。

    一种涂层形成装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1421281A

    公开(公告)日:2003-06-04

    申请号:CN02154348.8

    申请日:2002-11-26

    CPC classification number: H01L21/6715 B05B13/041 B05C5/0208 B05C11/1013

    Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定,在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5),喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端,在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分,其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分,使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。

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