公开(公告)号：CN102677018A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210058464.9

申请日：2012-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 门部雅人 ,  小野寺直见 ,  加藤和彦

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/345 ,  C23C16/303 ,  C23C16/46 ,  F27B17/0025 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明公开了一种热处理装置，其包括：用于将多个基板分层支承的支承体；反应管，其内部能够容纳上述支承体并具有被设置在该反应管的侧部并向上述反应管的内部供给气体的多个气体供给管以及自该多个气体供给管的相对位置偏移地设置并用于排出上述气体的排气部；第1加热部，其是用于对容纳在上述反应管内部的上述基板进行加热的第1加热部，具有自该第1加热部的下端延伸到上端的狭缝，该狭缝供上述多个气体供给管贯穿，该第1加热部的整个内表面中的该狭缝以外的内表面面向上述反应管的侧部。

公开(公告)号：CN102677018B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201210058464.9

申请日：2012-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 门部雅人 ,  小野寺直见 ,  加藤和彦

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/345 ,  C23C16/303 ,  C23C16/46 ,  F27B17/0025 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明公开了一种热处理装置，其包括：用于将多个基板分层支承的支承体；反应管，其内部能够容纳上述支承体并具有被设置在该反应管的侧部并向上述反应管的内部供给气体的多个气体供给管以及自该多个气体供给管的相对位置偏移地设置并用于排出上述气体的排气部；第1加热部，其是用于对容纳在上述反应管内部的上述基板进行加热的第1加热部，具有自该第1加热部的下端延伸到上端的狭缝，该狭缝供上述多个气体供给管贯穿，该第1加热部的整个内表面中的该狭缝以外的内表面面向上述反应管的侧部。

公开(公告)号：CN101877304B

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201010160866.0

申请日：2010-04-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野寺直见 ,  乡右近清彦 ,  佐藤润

IPC: H01L21/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/452

CPC classification number: F17D3/01 ,  C23C16/402 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67109 ,  Y10T137/0324

Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置和等离子处理方法，该等离子处理装置包括：筒体状的处理容器，其能够被抽真空；保持部件，其用于保持多个被处理体并插入到上述处理容器内或从上述处理容器内取出；气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给气体；活化部件，其沿着上述处理容器的长度方向设置，利用由高频电力产生的等离子体对上述气体进行活化，该等离子处理装置用于对上述被处理体实施等离子处理，其中，该等离子处理装置包括：筒体状的屏蔽壳体，其为了遮断高频而以包围上述处理容器的周围的方式设置且接地；冷却机构，其在上述等离子处理过程中用于使冷却气体沿着上述屏蔽壳体与上述处理容器之间的空间部流动。

公开(公告)号：CN101877304A

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN201010160866.0

申请日：2010-04-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野寺直见 ,  乡右近清彦 ,  佐藤润

IPC: H01L21/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/452

CPC classification number: F17D3/01 ,  C23C16/402 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67109 ,  Y10T137/0324

Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置和等离子处理方法，该等离子处理装置包括：筒体状的处理容器，其能够被抽真空；保持部件，其用于保持多个被处理体并插入到上述处理容器内或从上述处理容器内取出；气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给气体；活化部件，其沿着上述处理容器的长度方向设置，利用由高频电力产生的等离子体对上述气体进行活化，该等离子处理装置用于对上述被处理体实施等离子处理，其中，该等离子处理装置包括：筒体状的屏蔽壳体，其为了遮断高频而以包围上述处理容器的周围的方式设置且接地；冷却机构，其在上述等离子处理过程中用于使冷却气体沿着上述屏蔽壳体与上述处理容器之间的空间部流动。