公开(公告)号：CN110610873B

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN201910505293.1

申请日：2019-06-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山岸孝幸 ,  小林民宏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种有利于真空处理装置的小型化和简单化有利的技术。在真空处理装置的处理容器内中，在彼此相邻的位置，第一输送空间和第二输送空间在水平方向延伸设置，并且，沿上述延伸设置方向在第一输送空间与第二输送空间之间形成中间壁部。在第一输送空间沿延伸设置方向配置1个以上的上述处理空间，在第二输送空间沿延伸设置方向配置2个以上的上述处理空间。而且，在中间壁部内形成有：对上述3个以上的处理空间分别设置的排气通路和上述排气通路在其中合流的合流排气通路。在处理容器内设置合流排气通路，因此能够实现真空处理装置的小型化和简单化。

公开(公告)号：CN113140481A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110016234.5

申请日：2021-01-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  小林民宏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/205

Abstract: 本发明提供处理基板的装置和处理基板的方法。在基板处理装置中，减小处理腔室的非加热状态和加热状态下的载物台与载物台周边构件之间的位置偏移。在将载物台周边构件设置于处理腔室时，利用配置在靠近基准位置的位置的第1定位销使载物台周边构件相对于处理腔室固定。另一方面，从基准位置观察位于比第1定位销远的位置的第2定位销插入于第2孔部，该第2孔部沿着该第2定位销的移动的方向而形成为长孔形状。利用该结构，将处理腔室从非加热状态切换到加热状态时的载物台周边构件的位置偏移被抑制到第1定位销的移动量的程度，能够减小位置偏移尺寸。

公开(公告)号：CN113439328B

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202080014395.4

申请日：2020-02-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林民宏 ,  山岸孝幸

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/683 ,  C23C16/44

Abstract: 提供能够相对简便地进行载置台的位置调节的基板处理装置。基板处理装置包括分别载置作为处理对象的基板的多个载置台、自下表面侧支承各载置台的多个支柱以及自基端侧支承多个支柱的共用的基台部。位置调节机构具有设于基台部与各支柱之间并固定于基台部侧的固定构件、配置于其上方并对支柱的基端部进行定位而用于调节载置台的位置的位置调节构件以及分别设于围绕在支柱的周围的至少三个部位并以能够调节固定构件与位置调节构件之间的间隙的高度的状态将位置调节构件安装于固定构件的多个间隙高度调节部。多个位置调节机构中的至少一个位置调节机构在一个部位设有以固定了所述间隙的高度的状态将位置调节构件安装于固定构件的固定安装部。

公开(公告)号：CN113439328A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202080014395.4

申请日：2020-02-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林民宏 ,  山岸孝幸

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/683 ,  C23C16/44

Abstract: 提供能够相对简便地进行载置台的位置调节的基板处理装置。基板处理装置包括分别载置作为处理对象的基板的多个载置台、自下表面侧支承各载置台的多个支柱以及自基端侧支承多个支柱的共用的基台部。位置调节机构具有设于基台部与各支柱之间并固定于基台部侧的固定构件、配置于其上方并对支柱的基端部进行定位而用于调节载置台的位置的位置调节构件以及分别设于围绕在支柱的周围的至少三个部位并以能够调节固定构件与位置调节构件之间的间隙的高度的状态将位置调节构件安装于固定构件的多个间隙高度调节部。多个位置调节机构中的至少一个位置调节机构在一个部位设有以固定了所述间隙的高度的状态将位置调节构件安装于固定构件的固定安装部。

公开(公告)号：CN110610873A

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201910505293.1

申请日：2019-06-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山岸孝幸 ,  小林民宏

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种有利于真空处理装置的小型化和简单化有利的技术。在真空处理装置的处理容器内中，在彼此相邻的位置，第一输送空间和第二输送空间在水平方向延伸设置，并且，沿上述延伸设置方向在第一输送空间与第二输送空间之间形成中间壁部。在第一输送空间沿延伸设置方向配置1个以上的上述处理空间，在第二输送空间沿延伸设置方向配置2个以上的上述处理空间。而且，在中间壁部内形成有：对上述3个以上的处理空间分别设置的排气通路和上述排气通路在其中合流的合流排气通路。在处理容器内设置合流排气通路，因此能够实现真空处理装置的小型化和简单化。