公开(公告)号：CN109121276A

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201810642400.0

申请日：2018-06-21

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 河田祐纪 ,  小山纮司

IPC分类号： H05H1/24

摘要： 本发明提供一种天线及等离子体处理装置。本发明的天线具备电介质窗及设置于电介质窗的一个面的缝隙板，该天线中，将缝隙板上各缝隙(S)的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置(g)时，各缝隙(S)的基准位置(g)位于以重心(G0)为中心的虚拟圆上，连结各缝隙(S)的基准位置(g)与这些缝隙所属的虚拟点(G1)的线段从虚拟点(G1)以放射状存在，且相邻的这些线段之间的角度(β1～β4)相等，并且，基准位置(g)上的各缝隙(S)的长度方向与该缝隙(S)所属的上述线段所成的角度(θ1～θ4)相等。

公开(公告)号：CN109121276B

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN201810642400.0

申请日：2018-06-21

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 河田祐纪 ,  小山纮司

IPC分类号： H05H1/24

摘要： 本发明提供一种天线及等离子体处理装置。本发明的天线具备电介质窗及设置于电介质窗的一个面的缝隙板，该天线中，将缝隙板上各缝隙(S)的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置(g)时，各缝隙(S)的基准位置(g)位于以重心(G0)为中心的虚拟圆上，连结各缝隙(S)的基准位置(g)与这些缝隙所属的虚拟点(G1)的线段从虚拟点(G1)以放射状存在，且相邻的这些线段之间的角度(β1～β4)相等，并且，基准位置(g)上的各缝隙(S)的长度方向与该缝隙(S)所属的上述线段所成的角度(θ1～θ4)相等。

公开(公告)号：CN104350585A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201380026450.1

申请日：2013-06-14

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 松本直树 ,  小山纮司 ,  小津俊久 ,  吉村正太

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32449 ,  C23F4/00 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32134

摘要： 等离子体处理装置(1)通过使导入至处理容器(2)的处理气体等离子化，从而对收容在处理容器(2)的内部的晶圆(W)进行处理。等离子体处理装置(1)具备中央导入部(55)、周边导入部(61)、流量调整部以及控制部(49)。中央导入部(55)将含有Ar气体、He气体和蚀刻气体中的至少任意一者的处理气体导入至晶圆(W)的中央部。周边导入部(61)将处理气体导入至晶圆(W)的周边部。流量调整部用于调整自中央导入部(55)导入至晶圆(W)的中央部的处理气体的流量和自周边导入部(61)导入至晶圆(W)的周边部的处理气体的流量。控制部(49)以处理气体所含有的He气体相对于处理气体所含有的Ar气体的分压比为预定值以上的方式控制由流量调整部进行调整的处理气体的流量。