发明授权
- 专利标题: 天线及等离子体处理装置
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申请号: CN201810642400.0申请日: 2018-06-21
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公开(公告)号: CN109121276B公开(公告)日: 2021-10-12
- 发明人: 河田祐纪 , 小山纮司
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 安香子
- 优先权: 2017-122451 20170622 JP
- 主分类号: H05H1/24
- IPC分类号: H05H1/24
摘要:
本发明提供一种天线及等离子体处理装置。本发明的天线具备电介质窗及设置于电介质窗的一个面的缝隙板,该天线中,将缝隙板上各缝隙(S)的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置(g)时,各缝隙(S)的基准位置(g)位于以重心(G0)为中心的虚拟圆上,连结各缝隙(S)的基准位置(g)与这些缝隙所属的虚拟点(G1)的线段从虚拟点(G1)以放射状存在,且相邻的这些线段之间的角度(β1~β4)相等,并且,基准位置(g)上的各缝隙(S)的长度方向与该缝隙(S)所属的上述线段所成的角度(θ1~θ4)相等。
公开/授权文献
- CN109121276A 天线及等离子体处理装置 公开/授权日:2019-01-01
IPC分类: