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公开(公告)号：CN117438272A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310821015.3
申请日：2023-07-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 提供使蚀刻形状提高并且抑制在等离子体处理装置中的异常放电的技术。提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置具备与下部电极耦合的第一射频信号生成器以及第二射频信号生成器和与上部电极耦合的直流信号生成器。第一射频信号在重复期间内的第一状态期间有第一功率电平，在重复期间内的第二状态期间有比第一功率电平小的第二功率电平，在重复期间内的第三状态期间有第二功率电平。第二射频信号在第一状态期间有第三功率电平，在第二状态期间有比第三功率电平大的第四功率电平，在第三状态期间有第三功率电平。直流信号在第一状态期间有第一电压电平，在第二状态期间有第二电压电平，第一电压电平的绝对值比第二电压电平的绝对值大。
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