公开(公告)号：CN107546096A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710485227.3

申请日：2017-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 今中雅士 ,  中西敏雄 ,  本多稔 ,  小谷光司

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种能够得到具有所希望的膜厚均匀性的膜的等离子体成膜装置和使用它的基板载置台。等离子体成膜装置包括：用于收纳基板的腔室；用于在腔室内载置基板的基板载置台；对腔室内供给包含成膜气体的气体的气体供给机构；对腔室内进行排气的排气机构；和使腔室内生成等离子体的等离子体生成机构，基板载置台包括：比基板的直径小且具有载置面的载置台主体；配置在载置台主体的外侧的形成环状的调整部件，调整部件设置成可更换，并且作为调整部件准备多个在基板的外侧的位置具有各种台阶差的调整部件，能够使用从多个调整部件中根据等离子体处理的处理条件选择的调整部件。

公开(公告)号：CN107546096B

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201710485227.3

申请日：2017-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 今中雅士 ,  中西敏雄 ,  本多稔 ,  小谷光司

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种能够得到具有所希望的膜厚均匀性的膜的等离子体成膜装置和使用它的基板载置台。等离子体成膜装置包括：用于收纳基板的腔室；用于在腔室内载置基板的基板载置台；对腔室内供给包含成膜气体的气体的气体供给机构；对腔室内进行排气的排气机构；和使腔室内生成等离子体的等离子体生成机构，基板载置台包括：比基板的直径小且具有载置面的载置台主体；配置在载置台主体的外侧的形成环状的调整部件，调整部件设置成可更换，并且作为调整部件准备多个在基板的外侧的位置具有各种台阶差的调整部件，能够使用从多个调整部件中根据等离子体处理的处理条件选择的调整部件。