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公开(公告)号：CN117397013A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202280038707.4
申请日：2022-05-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 一种基板处理装置，其对基板进行处理，其中，该基板处理装置具有：内侧腔室，其收容基板；外侧腔室，其设于所述内侧腔室的外侧；以及处理气体供给部，其向所述内侧腔室的内部供给处理气体，所述内侧腔室构成为相对于所述外侧腔室拆装自如，所述外侧腔室设为不与供给到所述内侧腔室的内部的所述处理气体接触。
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