公开(公告)号：CN110105757A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201910087385.2

申请日：2019-01-29

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  JFE化学株式会社

Inventor： 石川薰 ,  西端巳季夫 ,  川村芳次 ,  中尾浩章

IPC: C08L79/08 ,  C08L25/06 ,  C08L25/08 ,  C08K7/18 ,  C08K9/04 ,  C08K3/26 ,  C08J5/18 ,  C08J9/26 ,  C08G73/10

Abstract: 本发明的课题在于提供抗拉强度及弯曲强度优异的多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法、及可合适地用于其制造的组合物。本发明的解决手段为由ASTM标准D638规定的抗拉强度为45MPa以上的多孔质聚酰亚胺膜坯膜。所述多孔质聚酰亚胺膜坯膜包含：含有下述式(1-1)表示的结构单元及下述式(1-2)表示的结构单元的聚酰亚胺。上述式中，A11及A12各自独立地表示由包含芳香族四羧酸酐的酸酐衍生的4价的芳香族基团，B11及B12各自独立地表示由芳香族二胺衍生的2价的二胺残基，选自由A12及B12组成的组中的至少1个在其结构中包含2价的间隔基团。

公开(公告)号：CN110105757B

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN201910087385.2

申请日：2019-01-29

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  JFE化学株式会社

Inventor： 石川薰 ,  西端巳季夫 ,  川村芳次 ,  中尾浩章

IPC: C08L79/08 ,  C08L25/06 ,  C08L25/08 ,  C08K7/18 ,  C08K9/04 ,  C08K3/26 ,  C08J5/18 ,  C08J9/26 ,  C08G73/10

Abstract: 本发明的课题在于提供抗拉强度及弯曲强度优异的多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法、及可合适地用于其制造的组合物。本发明的解决手段为由ASTM标准D638规定的抗拉强度为45MPa以上的多孔质聚酰亚胺膜坯膜。所述多孔质聚酰亚胺膜坯膜包含：含有下述式(1‑1)表示的结构单元及下述式(1‑2)表示的结构单元的聚酰亚胺。上述式中，A11及A12各自独立地表示由包含芳香族四羧酸酐的酸酐衍生的4价的芳香族基团，B11及B12各自独立地表示由芳香族二胺衍生的2价的二胺残基，选自由A12及B12组成的组中的至少1个在其结构中包含2价的间隔基团。