层叠体
    3.
    发明公开
    层叠体 审中-实审

    公开(公告)号:CN116249619A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202180064823.9

    申请日:2021-09-17

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种粘接性、加工性、耐油性、耐热性、耐湿热性优异的层叠体。解决手段是一种层叠体,其隔着粘接层依次具有膜A、膜B、膜C(将膜A与膜B之间具有的粘接层设为粘接层AB,将膜B与膜C之间具有的粘接层设为粘接层BC),所述层叠体中,所述膜B在150℃下经过30分钟的热收缩率的最大值为0.1%以上且3.0%以下,所述粘接层AB及粘接层BC的马氏硬度为1.0N/mm2以上且4.0N/mm2以下,将所述层叠体浸渍于自动变速器液中并在150℃的温度下进行了10小时的热处理时的、隔着所述粘接层AB的膜A与膜B的粘接面积率、隔着所述粘接层BC的膜B与膜C的粘接面积率均为95%以上。

    阻气性膜
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105829093B

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201580003271.5

    申请日:2015-01-23

    Inventor: 森健太郎

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有高度的阻气性,并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜是在高分子基材的至少一侧从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜,硅化合物层[B]至少包含具有SiNxHy、SiOpNq、SiOa(OH)4‑2a(x+y=4,p+q=4,a<2x、y、p、q>0)所示的结构的硅化合物,并且无机层[A]与硅化合物层[B]相接。

    阻气性膜
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108503870A

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201810245065.0

    申请日:2013-12-25

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性,并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜,其特征在于,是在高分子基材的至少一侧,从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜,无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物,硅化合物层[B]包含硅氧氮化物,并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。

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