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公开(公告)号：CN111886278A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201980020903.7
申请日：2019-03-18
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08G73/06 , C08L79/04 , H01L27/146 , H01L31/0232
Abstract: 本发明的目的在于提供即使不添加金属氧化物也能单独利用聚合物达成高耐热性、高折射率并且对热、湿度的长期稳定性优异的含三嗪环的聚合物以及包含该聚合物的膜形成用组合物。本发明为含三嗪环的聚合物，其特征在于，包含下述式(1)所示的重复单元结构。
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公开(公告)号：CN105308484A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480034083.4
申请日：2014-06-12
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G02F1/133512 , G02B5/201 , G02F1/133514 , G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/105 , G03F7/11 , H01L51/5284
Abstract: 本发明公开了具备充分的光密度，并且反射率低，进一步能够高精细的叠层树脂黑矩阵的制造方法，以及包含通过该方法制造的叠层树脂黑矩阵基板的滤色器基板。叠层树脂黑矩阵基板的制造方法包括下述工序：将基板上的、含有遮光材的非感光性树脂组合物A的涂膜A与含有遮光材的树脂组合物B的涂膜B的叠层进行一并曝光的工序，将曝光后的上述叠层进行显影的工序。滤色器基板在通过该制造方法制造的叠层树脂黑矩阵基板的开口部形成有红、绿或蓝的像素。
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公开(公告)号：CN112368336A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980040304.1
申请日：2019-08-22
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 提供低折射率、耐热性、耐化学药品性、涂布性优异、并且图案加工性优异的树脂组合物。树脂组合物，其特征在于，含有(A)聚硅氧烷、(B)溶剂，前述(A)聚硅氧烷包含特定的通式(1)～(3)中任一者所示的结构及特定的下述通式(4)或(5)中任一者所示的结构。
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公开(公告)号：CN111919173A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022025.2
申请日：2019-03-27
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明提供光透过性高、高耐热、图案加工性优异的正型感光性树脂组合物。本发明的正型感光性树脂组合物含有聚硅氧烷(A)、萘醌二叠氮化合物(B)及溶剂(C)，上述聚硅氧烷(A)包含选自下述通式(1)～(3)中的1种以上的结构、且包含选自下述通式(4)～(6)中的1种以上的结构。[化学式1](通式(1)～(3)中，R4为碳原子数为2～6的具有不饱和双键的烃基，R1表示单键、或碳原子数为1～4的亚烷基，式(2)的R2表示氢、或碳原子数为1～4的烷基。通式(3)中，R3表示有机基团。)[化学式2] (通式(5)中，R2为氢、或碳原子数为1～4的烷基。通式(6)中，R3表示有机基团)。
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公开(公告)号：CN109071742A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780024568.9
申请日：2017-04-17
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08F299/08 , C08G77/20 , C08L83/07 , G03F7/027 , G03F7/075 , H01L27/146
Abstract: 树脂组合物，其是包含(A)聚硅氧烷和(B)溶剂的树脂组合物，其中，(A)聚硅氧烷包含至少1个以上的下述通式(1)～(3)中任一者表示的部分结构，涂布所述树脂组合物并于100℃干燥3分钟后的膜厚X、与其后于230℃加热5分钟后的膜厚Y的关系为(X-Y)/X≤0.05。本树脂组合物对凹凸部分的涂布性优异，即使为薄膜也具有优异的平坦化性能。(R1表示单键或碳原子数1～4的烷基，R2表示碳原子数1～4的烷基，R3表示有机基团。)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105026963B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201480010592.3
申请日：2014-03-04
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01L51/5284 , G02F1/133512 , G02F2202/36 , H01L2251/5369 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2220/325 , C08F2222/1013 , C08F222/1006
Abstract: 本发明的课题在于提供一种虽然具有充分的光密度，但是反射率低的形成有树脂黑矩阵的树脂黑矩阵基板。本发明是一种黑矩阵基板，依次具有透明基板、遮光层(A)及遮光层(B)，遮光层(A)的每单位厚度的光密度比遮光层(B)的每单位厚度的光密度低，遮光层(A)包含遮光材料和折射率1.4～1.8的微粒。本发明的黑矩阵基板因为其特征而对于滤色器、液晶显示装置有用。
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公开(公告)号：CN107073914A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580052928.7
申请日：2015-09-25
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/34 , B05D7/04 , B05D7/24 , B32B7/02 , C08F290/06 , C08G73/10 , G02B5/20 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10 , H05B33/12 , C08G77/04
Abstract: 本发明提供显示器用支承基板，其特征在于，其为在包含聚酰亚胺树脂的膜A的至少一面上具有包含聚硅氧烷树脂的膜B的显示器用支承基板，在膜B中包含无机氧化物粒子，本发明的显示器用支承基板无需进行复杂的操作即可适用于滤色片、有机EL元件等，可制作高精细的显示器，且CTE小、双折射率小、并且具有挠性。
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公开(公告)号：CN111919173B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN201980022025.2
申请日：2019-03-27
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明提供光透过性高、高耐热、图案加工性优异的正型感光性树脂组合物。本发明的正型感光性树脂组合物含有聚硅氧烷(A)、萘醌二叠氮化合物(B)及溶剂(C)，上述聚硅氧烷(A)包含选自下述通式(1)～(3)中的1种以上的结构、且包含选自下述通式(4)～(6)中的1种以上的结构。[化学式1]#imgabs0#(通式(1)～(3)中，R4为碳原子数为2～6的具有不饱和双键的烃基，R1表示单键、或碳原子数为1～4的亚烷基，式(2)的R2表示氢、或碳原子数为1～4的烷基。通式(3)中，R3表示有机基团。)[化学式2]#imgabs1#(通式(5)中，R2为氢、或碳原子数为1～4的烷基。通式(6)中，R3表示有机基团。)。
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公开(公告)号：CN109071742B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201780024568.9
申请日：2017-04-17
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08F299/08 , C08G77/20 , C08L83/07 , G03F7/027 , G03F7/075 , H01L27/146
Abstract: 树脂组合物，其是包含(A)聚硅氧烷和(B)溶剂的树脂组合物，其中，(A)聚硅氧烷包含至少1个以上的下述通式(1)～(3)中任一者表示的部分结构，涂布所述树脂组合物并于100℃干燥3分钟后的膜厚X、与其后于230℃加热5分钟后的膜厚Y的关系为(X‑Y)/X≤0.05。本树脂组合物对凹凸部分的涂布性优异，即使为薄膜也具有优异的平坦化性能。(R1表示单键或碳原子数1～4的烷基，R2表示碳原子数1～4的烷基，R3表示有机基团。)
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公开(公告)号：CN105026963A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201480010592.3
申请日：2014-03-04
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01L51/5284 , G02F1/133512 , G02F2202/36 , H01L2251/5369 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F2220/325 , C08F2222/1013 , C08F222/1006
Abstract: 本发明的课题在于提供一种虽然具有充分的光密度，但是反射率低的形成有树脂黑矩阵的树脂黑矩阵基板。本发明是一种黑矩阵基板，依次具有透明基板、遮光层(A)及遮光层(B)，遮光层(A)的每单位厚度的光密度比遮光层(B)的每单位厚度的光密度低，遮光层(A)包含遮光材料和折射率1.4～1.8的微粒。本发明的黑矩阵基板因为其特征而对于滤色器、液晶显示装置有用。
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