层合膜及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116723934A

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202180088182.0

    申请日:2021-12-01

    Abstract: 本发明的层合膜是在树脂基材的至少一个表面上具有树脂层的层合膜,所述树脂层位于至少一方的表层,对于所述树脂层表面的碳的K吸收边的X射线吸收近边结构(XANES)光谱,在将入射X射线与树脂层表面所成的角设定为θ、将通过部分电子产额法得到的293.5eV的光谱强度设定为I(θ)时,满足I(15°)‑I(90°)≥0.1。本发明提供作为涂布含有溶剂的涂布液,并进行干燥、固化后剥离的离型膜,涂布性、剥离性优异,并且即使经过加热工序也不会发生表面层拱起的层合膜。

    脱模膜
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111491771B

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN201880081983.2

    申请日:2018-12-13

    Abstract: 本发明的课题是提供,通过具有模具追随性、耐热性优异,并且抑制加热时产生的褶皱,在大变形后脱模性也不易变化的特性,从而可以适合用于工序用途、特别是半导体密封工序用途的脱模膜。解决手段是一种工序用脱模膜,在将利用TMA测得的、以10℃/分钟从30℃升温到200℃时的30℃~150℃中的最大尺寸变化率设为S1(%),将提供S1的温度设为T1(℃),且将40℃下的尺寸变化率设为S0(%)时,满足下述(I)和(II)式,25℃下的表面自由能Sa(mN/mm)、在180℃下进行了3分钟热处理后的表面自由能Sb(mN/mm)和在180℃下伸长50%后的表面自由能Sc(mN/mm)在膜的至少一面满足下述(III)和(IV)式。0≤S1≤1.5 (I);0≤|S1‑S0|/(T1‑40)≤0.050 (II);0≤|Sa‑Sb|≤15 (III);0≤|Sa‑Sc|≤15 (IV)。

    膜
    3.
    发明公开
    有权

    公开(公告)号:CN110573334A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201880026540.3

    申请日:2018-04-06

    Abstract: 本发明提供一种膜,是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下,并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10%以下,320nm的平行光线透射率ST320为30%以上的膜,通过该膜,在作为转印膜使用的情况下,能够均匀地转印低光泽调外观,并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下,也能够进行低光泽外观的转印、形状固定,具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。

    层叠膜
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106133560B

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201580015224.2

    申请日:2015-03-18

    Abstract: 本发明提供一种层叠膜,其特征在于,在膜的至少一个表面上设置有涂布层,所述涂布层包含由树脂(A)形成的数均粒径为4μm以上的粒子(a),在粒子(a)的表面上附着有数均粒径为0.1μm以上且为1μm以下的粒子(b)。本发明提供下述层叠反射膜、光学片材,对于所述层叠反射膜、光学片材而言,即使液晶电视内的温度为高温,产生与以往相同或更严重的程度的、因导光板的翘曲而导致的对反射板的负荷及因导光板的热膨胀及收缩而导致的导光板与反射板的摩擦,也能够防止因密合而导致的亮度不均、防止导光板及反射板的损伤。

    膜及膜的制造方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110678504B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN201880033288.9

    申请日:2018-04-16

    Abstract: 一种膜,其特征在于,25℃下的5%伸长时应力Ta为1.0MPa以上且20.0MPa以下,在将施加荷重120g/mm2,且以10℃/分钟的升温速度从25℃升温至160℃时的90℃下的尺寸变化率设为90℃尺寸变化率1,将90℃尺寸变化率1最大的方向设为X方向,将与X方向在膜面内正交的方向设为Y方向,将X方向的90℃尺寸变化率设为Tx1(%)时,Tx1为‑10.00%以上且10.00%以下。提供具备在加热工序中能够维持平面性的程度的耐热性、和对于作为切割用粘着膜等使用而言充分的柔软性的、适合作为半导体制造工序用基材的膜。

    膜及膜的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110678504A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201880033288.9

    申请日:2018-04-16

    Abstract: 一种膜,其特征在于,25℃下的5%伸长时应力Ta为1.0MPa以上且20.0MPa以下,在将施加荷重120g/mm2,且以10℃/分钟的升温速度从25℃升温至160℃时的90℃下的尺寸变化率设为90℃尺寸变化率1,将90℃尺寸变化率1最大的方向设为X方向,将与X方向在膜面内正交的方向设为Y方向,将X方向的90℃尺寸变化率设为Tx1(%)时,Tx1为-10.00%以上且10.00%以下。提供具备在加热工序中能够维持平面性的程度的耐热性、和对于作为切割用粘着膜等使用而言充分的柔软性的、适合作为半导体制造工序用基材的膜。

    膜
    9.
    发明授权
    有权

    公开(公告)号:CN111201137B

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN201880065702.4

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 提供一种膜,通过该膜,在作为转印膜使用的情况下,能够转印不依赖于入射角度的均匀的低光泽外观,上述膜是具有60°光泽度(G60)和85°光泽度(G85)都为27以下的低光泽层(A层)的膜,上述60°光泽度(G60)、和上述85°光泽度(G85)满足0.1≤(G85)/(G60)≤3。

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