公开(公告)号：CN107112496A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201680004871.8

申请日：2016-02-24

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 渡边敦 ,  中岛一茂

IPC: H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C9/04 ,  B05C9/08

Abstract: 提供实现调整作业的简略化的涂布装置。具体而言，该涂布装置的特征在于，其具有：片输送部，其对电极片进行输送；涂布喷嘴，其朝向输送中的所述电极片喷出涂布材料；以及间隙调节部，其对输送中的电极片与涂布喷嘴之间的间隔进行调节，在涂布喷嘴中，在与电极片的输送方向交叉的方向上并列配置有喷出电极材料的电极材料喷出部和喷出绝缘材料的绝缘材料喷出部，间隙调节部对电极材料喷出部以及所述绝缘材料喷出部相对于输送中的所述电极片的间隔一体地进行调节。

公开(公告)号：CN107112496B

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201680004871.8

申请日：2016-02-24

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 渡边敦 ,  中岛一茂

IPC: H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C9/04 ,  B05C9/08

Abstract: 提供实现调整作业的简略化的涂布装置。具体而言，该涂布装置的特征在于，其具有：片输送部，其对电极片进行输送；涂布喷嘴，其朝向输送中的所述电极片喷出涂布材料；以及间隙调节部，其对输送中的电极片与涂布喷嘴之间的间隔进行调节，在涂布喷嘴中，在与电极片的输送方向交叉的方向上并列配置有喷出电极材料的电极材料喷出部和喷出绝缘材料的绝缘材料喷出部，间隙调节部对电极材料喷出部以及所述绝缘材料喷出部相对于输送中的所述电极片的间隔一体地进行调节。

公开(公告)号：CN104335393B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201480001312.2

申请日：2014-03-05

Applicant: 横河电机株式会社 ,  东丽工程株式会社

Inventor： 宫本浩幸 ,  佐佐木尚史 ,  渡边敦 ,  中岛一茂 ,  西松洋平 ,  北岛贤司

IPC: H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10

CPC classification number: H01M4/0402 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/1005 ,  B05C11/1023 ,  H01M4/0419

Abstract: 在将电极活性材料等涂敷物涂敷至基材时，将基材宽度方向的涂敷物的表面形状优化。本发明的控制系统具有：间隙调整部，其对用于喷出涂敷物的喷嘴和涂敷物所涂敷的基材之间的间隙进行调整；转速调整部，其对将涂敷物压送至喷嘴的泵的转速进行调整；模型计算部，其基于对涂敷物在基材宽度方向的表面形状中的上升区域的形状进行模拟而得到的端部模型、以及对表面形状中被上升区域夹着的中央区域的形状进行模拟而得到的中央部模型，通过计算求出涂敷物的表面形状；比较部，其对利用模型计算部计算出的涂敷物的表面形状和预先设定的设定形状进行比较；以及控制运算部，其基于比较部的比较结果，求出间隙调整部以及转速调整部中的至少某一者的控制量。

公开(公告)号：CN115279503A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202180019597.2

申请日：2021-02-05

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 栗秋武史 ,  北岛贤司 ,  渡边敦 ,  前田和纪 ,  中岛一茂

IPC: B05C5/02

Abstract: 提供涂布质量优良且厚度均匀的涂布膜的缝隙模。具体而言，缝隙模(1)向基材排出涂液，其特征在于，该缝隙模(1)具有：多个歧管(11)，它们分别是蓄积涂液的空间，被设置在宽度方向上；多个涂液供给口(16)，它们向所述多个歧管分别供给涂液；一个排出口(4)，其经由在所述宽度方向上宽的缝隙(12)而与该多个歧管连通，对基材排出涂液；以及填隙片(15)，其是为了构成所述缝隙的高度而被设置的，所述填隙片在该缝隙模的两端部具有延伸至所述排出口的端部突起部(18)，并且在各歧管之间分别具有相比于各歧管向所述排出口方向延伸的中间突起部(19)。

公开(公告)号：CN104335393A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201480001312.2

申请日：2014-03-05

Applicant: 横河电机株式会社 ,  东丽工程株式会社

Inventor： 宫本浩幸 ,  佐佐木尚史 ,  渡边敦 ,  中岛一茂 ,  西松洋平 ,  北岛贤司

IPC: H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10

CPC classification number: H01M4/0402 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/1005 ,  B05C11/1023 ,  H01M4/0419 ,  H01M4/043 ,  B05C11/10

Abstract: 在将电极活性材料等涂敷物涂敷至基材时，将基材宽度方向的涂敷物的表面形状优化。本发明的控制系统具有：间隙调整部，其对用于喷出涂敷物的喷嘴和涂敷物所涂敷的基材之间的间隙进行调整；转速调整部，其对将涂敷物压送至喷嘴的泵的转速进行调整；模型计算部，其基于对涂敷物在基材宽度方向的表面形状中的上升区域的形状进行模拟而得到的端部模型、以及对表面形状中被上升区域夹着的中央区域的形状进行模拟而得到的中央部模型，通过计算求出涂敷物的表面形状；比较部，其对利用模型计算部计算出的涂敷物的表面形状和预先设定的设定形状进行比较；以及控制运算部，其基于比较部的比较结果，求出间隙调整部以及转速调整部中的至少某一者的控制量。