适用于软X射线自由电子激光光束准直的超高真空四刀狭缝

    公开(公告)号:CN116111439A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202310080860.X

    申请日:2023-01-17

    Abstract: 本发明公开了一种适用于软X射线自由电子激光光束准直的超高真空四刀狭缝,其特征在于,包括超高真空腔体以及完全位于超高真空腔体内的四刀狭缝,软X射线自由电子激光脉冲从超高真空腔体的前部CF100法兰进入超高真空腔体后,自后部CF100法兰出超高真空腔体,其中:四刀狭缝包括竖直方向双刀狭缝以及水平方向双刀狭缝,分别对X射线自由电子激光光束从水平和竖直方向形成约束。本发明同时具有精度高、可靠性强、紧凑型、结构简单、能在超高真空环境下工作等特点。

    一种软X射线滤光片及其制备方法和用途

    公开(公告)号:CN113689968A

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN202110972075.6

    申请日:2021-08-24

    Inventor: 孟建伟 翁祖谦

    Abstract: 本发明涉及X射线探测应用领域,特别是涉及一种软X射线滤光片及其制备方法和用途。本发明所提供的软X射线滤光片,包括石墨烯支撑层,所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。本申请所提供的软X射线滤光片采用了石墨烯作为铝膜的支撑结构,使得能量在277eV附近的光子,其透过率可达到90%以上,克服了现有滤光片对该能量范围透过率底的问题,而对于能量范围在400‑1000eV的光子,其最低透过率更是达到95%以上,尤其是能量大于1000eV的光子,几乎完全透过。

    一种用于自由电子激光谱学实验的薄膜喷嘴和硬X射线谱学的液体样品环境系统

    公开(公告)号:CN119259287A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411437718.7

    申请日:2024-10-15

    Abstract: 本发明提供一种用于自由电子激光谱学实验的薄膜喷嘴和硬X射线谱学的液体样品环境系统,涉及自由电子激光实验站样品环境技术领域。本发明第一方面所提供的薄膜喷嘴包括第一级喷嘴和嵌套设于所述第一级喷嘴中且与之可拆卸连接的第二级喷嘴;所述第二级喷嘴中依次设有沿液流的流动方向逐渐收拢但不收口的变径通道和喷射通道,所述喷射通道的出液口处的横截面积为0.05mm2~0.005mm2。通过上述设置,所述薄膜喷嘴能够产生液流厚度小于20μm且对时间分辨率的影响小于66fs的扁平超薄液膜,能够满足硬X射线谱学实验对液体样品厚度的严格要求,极大提升时间分辨的硬X射线谱学实验精度。

    一种水平结构布局的脉冲激光沉积系统

    公开(公告)号:CN113463035A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202110745685.2

    申请日:2021-07-01

    Abstract: 本申请提供一种水平结构布局的脉冲激光沉积系统,包括:真空腔体,包括一或多个靶材及可活动载样部件;传样腔体,与所述真空腔体连通;传样杆,其包括抓取部件;所述抓取部件抓取样品后穿过所述传样腔体后进入所述真空腔体,供所述可活动载样部件活动至与所述抓取部件对准的位置后装载所述样品。本发明的水平结构布局设计,有效避免小颗粒的回落,从而提高了薄膜生长的质量;靶材的立方体布局设计,有效避免交叉污染;所有传动结构都可密封在不锈钢保护罩内,有效避免小颗粒在齿轮间的沉积;在不破坏主腔体真空的条件下,通过更换传样杆前端的抓取头便可同时实现传样操作和更换靶材操作,操作简单,有效提高工作效率;系统稳定性提高且易于维护。

    一种液流芯片及液膜制备装置

    公开(公告)号:CN219804659U

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202321059794.X

    申请日:2023-05-04

    Abstract: 本申请涉及X射线谱学的方法学领域,为一种液流芯片及液膜制备装置。本申请提供的液流芯片中,包括连通的进样口和芯片结构,所述芯片结构包括依次连通的孔、槽、微通道组件和喷嘴,所述进样口与所述孔相连;微通道组件包括第一微通道和第二微通道,第一微通道的末端和第二微通道的末端的夹角α为90°~140°,第一微通道和第二微通道分别与喷嘴连通。本申请在原理上使用两股射流对撞的方式产生扁平的超薄液膜,并能够保持长时间的稳定;在设计上将液体导入的结构和液体喷射结构设计于一体。

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