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公开(公告)号：CN113684461A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110936830.5
申请日：2021-08-16
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有面形修正能力的SIC反射镜表面改性工艺方法，解决了目前对碳化硅的整体加工效率低下，加工面形精度要求高的问题，其技术方案要点是通过在待改性工件与靶材之间放置一个具有孔径的遮挡板，根据测量得到的需要增加的面形量和单位淀积函数，计算改性膜层驻留时间分布，通过对工件的运动轨迹进行规划，进行工件表面改性层面形可控沉积，本发明的一种具有面形修正能力的SIC反射镜表面改性工艺方法，可实现局部可控沉积，有效减低改性前工件面形的精度要求，减少粗抛光加工时间，提高了整体加工效率。
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公开(公告)号：CN113684451A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110936829.2
申请日：2021-08-16
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种碳化硅光学镜片的增材面形修正装置，解决了现有沉积装置不具备面形修正能力，粗抛光效率低限制了整体加工效率的弊端，其技术方案要点是包括有真空腔、用于镀膜的镀膜系统及靶材，还包括有工件位移平台、运动控制器、遮挡板、对准夹持机构，通过遮挡板上开设的通孔及运动控制器按照设定的运动轨迹控制进行工件表面局部可控沉积，本发明的一种碳化硅光学镜片的增材面形修正装置，结构简单，成本低，通用性更强，能减低改性前工件面形的精度要求，提高整体的加工效率。
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公开(公告)号：CN113984207B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202111230867.2
申请日：2021-10-22
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明公开了一种像切分器的飞刀加工方法，解决了传统光学加工每个子切片相对独立，胶合时需要同时进行俯仰、偏摆和离焦量的调节，装调繁琐，胶合装配的难度越来越大，精度也受影响的弊端，其技术方案要点是对像切分器进行加工部分划分并进行编号，根据对应加工部分在原工件坐标系中的离轴量和加工位置计算对应的加工截面轮廓半径，再通过进行刀具半径补偿计算获取飞刀轨迹半径，根据像切分器水平方向的离轴量确定轨迹的起始点和终点坐标，以此完成垂直方向进给和水平轮廓进给，完成其中一条轮廓线的飞切加工，以此类推，完成整个面形加工，本发明能省去繁琐装配，加工操作更加便捷、效率高、子切面之间的相对精度更高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112304244B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202011295196.3
申请日：2020-11-18
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于红外偏折术的积分腔狭缝光源装置，包括具有开口的积分腔、基板、包括多个发热电阻的发热电阻阵列和遮光板，其中，基板与积分腔相固定，基板的中心设置有出光狭缝，发热电阻阵列设置于所述基板与所述遮光板之间，遮光板遮盖发热电阻阵列但不遮盖出光狭缝，积分腔的内壁和基板上设置有涂层，发热电阻阵列用于向积分腔中辐射红外光，出光狭缝用于出射经在积分腔中经漫反射后的红外光，遮光板用于抑制背景辐射。该光源装置可以产生均匀的长波红外辐射。
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公开(公告)号：CN113984207A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111230867.2
申请日：2021-10-22
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明公开了一种像切分器的飞刀加工方法，解决了传统光学加工每个子切片相对独立，胶合时需要同时进行俯仰、偏摆和离焦量的调节，装调繁琐，胶合装配的难度越来越大，精度也受影响的弊端，其技术方案要点是对像切分器进行加工部分划分并进行编号，根据对应加工部分在原工件坐标系中的离轴量和加工位置计算对应的加工截面轮廓半径，再通过进行刀具半径补偿计算获取飞刀轨迹半径，根据像切分器水平方向的离轴量确定轨迹的起始点和终点坐标，以此完成垂直方向进给和水平轮廓进给，完成其中一条轮廓线的飞切加工，以此类推，完成整个面形加工，本发明能省去繁琐装配，加工操作更加便捷、效率高、子切面之间的相对精度更高。
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公开(公告)号：CN112304244A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202011295196.3
申请日：2020-11-18
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于红外偏折术的积分腔狭缝光源装置，包括具有开口的积分腔、基板、包括多个发热电阻的发热电阻阵列和遮光板，其中，基板与积分腔相固定，基板的中心设置有出光狭缝，发热电阻阵列设置于所述基板与所述遮光板之间，遮光板遮盖发热电阻阵列但不遮盖出光狭缝，积分腔的内壁和基板上设置有涂层，发热电阻阵列用于向积分腔中辐射红外光，出光狭缝用于出射经在积分腔中经漫反射后的红外光，遮光板用于抑制背景辐射。该光源装置可以产生均匀的长波红外辐射。
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公开(公告)号：CN213858238U
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN202120895602.3
申请日：2021-04-28
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于超精密车削的工装结构，包括工装主体，工装主体具有一与所需车削工件接触的工件装配面和一与超精密车床的真空吸盘接触的机床装配面；所述工件装配面和机床装配面之间具有若干与真空吸盘连通的通孔；所述的通孔具有连续或断续的内螺纹；还包括若干与内螺纹匹配的螺丝。可根据工件的外形，将与工件重叠以外的通孔通过螺丝阻止，一方面可以使通孔的通气部分仅限于与工件接触，从而产生足够的吸附力；另一方面可以通过螺丝的配重，使整个工装主体旋转时实现动平衡。
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公开(公告)号：CN213301122U
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202022670115.5
申请日：2020-11-18
Applicant: 上海济物光电技术有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本实用新型公开了一种基于红外偏折术的积分腔狭缝光源装置，包括具有开口的积分腔、基板、包括多个发热电阻的发热电阻阵列和遮光板，其中，基板与积分腔相固定，基板的中心设置有出光狭缝，发热电阻阵列设置于所述基板与所述遮光板之间，遮光板遮盖发热电阻阵列但不遮盖出光狭缝，积分腔的内壁和基板上设置有涂层，发热电阻阵列用于向积分腔中辐射红外光，出光狭缝用于出射经在积分腔中经漫反射后的红外光，遮光板用于抑制背景辐射。该光源装置可以产生均匀的长波红外辐射。
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