公开(公告)号：CN114990685A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202210640397.5

申请日：2022-06-07

Applicant: 上海应用技术大学

Inventor： 王振卫 ,  宣宇娜 ,  冯凯 ,  詹秦芳 ,  蒋继波 ,  李会英

IPC: C25F3/22

Abstract: 本发明涉及表面处理技术领域，具体涉及一种铜电解抛光液及电解抛光方法，包括以下重量份的各组分：磷酸45‑55份；光亮剂4‑5份；整平剂0.5‑1份；纯水30‑50份；包括如下步骤：S1：铜预处理：将待抛光铜材料置于稀酸中超声活化，随后在去离子水中超声清洗；S2：电解抛光：将经预处理的铜材料置于铜电解抛光液中电解抛光；S3：铜后处理：将经电解抛光的铜材料在1号钝化液中一次超声处理，随后在2号钝化液中二次超声处理，最后清洗并烘干。与现有技术相比，本发明实现了无毒无害无污染的铜电解抛光液及电解抛光方法，适用于工业大批量生产，且抛光产品质量高，更加光亮。

公开(公告)号：CN114990685B

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202210640397.5

申请日：2022-06-07

Applicant: 上海应用技术大学

Inventor： 王振卫 ,  宣宇娜 ,  冯凯 ,  詹秦芳 ,  蒋继波 ,  李会英

IPC: C25F3/22

Abstract: 本发明涉及表面处理技术领域，具体涉及一种铜电解抛光液及电解抛光方法，包括以下重量份的各组分：磷酸45‑55份；光亮剂4‑5份；整平剂0.5‑1份；纯水30‑50份；包括如下步骤：S1：铜预处理：将待抛光铜材料置于稀酸中超声活化，随后在去离子水中超声清洗；S2：电解抛光：将经预处理的铜材料置于铜电解抛光液中电解抛光；S3：铜后处理：将经电解抛光的铜材料在1号钝化液中一次超声处理，随后在2号钝化液中二次超声处理，最后清洗并烘干。与现有技术相比，本发明实现了无毒无害无污染的铜电解抛光液及电解抛光方法，适用于工业大批量生产，且抛光产品质量高，更加光亮。