一种适于银杏的栽植系统及栽植方法

    公开(公告)号:CN113508700A

    公开(公告)日:2021-10-19

    申请号:CN202010218443.3

    申请日:2020-03-25

    Abstract: 本发明提供了一种适于银杏的栽植系统和栽植方法,该栽植系统包括:树穴:及栽植基质,所述栽植基质包括:生长层,所述生长层由体积比为(5‑8):5的配方土和填充颗粒的混合物形成,并预留有用于银杏种植于其中的种植坑,所述生长层的质量含水量为25‑40%;以及养护装置,设置于所述生长层,所述养护装置为中空柱状件,所述中空柱状件中填充有适于银杏生长的营养液和壤土的混合物。在栽植系统的生长层中布置中空柱状件实现了前期加入的营养液可以慢慢渗出,也便于后期注入各种营养液和药剂,大大降低了银杏养护的人工和机械成本,并且也增加了栽植系统的载荷。

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