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公开(公告)号：CN113064329B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202110321468.0
申请日：2021-03-25
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜，将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题，并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制，克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题；本系统通过结合光纤端超透镜，能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件，节约制备成本和时间。
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公开(公告)号：CN113031149B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110368228.6
申请日：2021-04-06
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。该系统包括三维打印装置、光学成像装置和控制器；将设计好的纳米光纤导入控制器中，通过光学成像装置对打印的纳米光纤进行实时监测，并且调整激光聚焦位置；三维打印装置将聚焦后的飞秒激光照射至空芯光纤中的光敏复合材料，引发双光子聚合为纳米光纤，在泵的驱动下，纳米光纤随着光敏复合材料流动至显影腔体内，在显影液作用下，去除多余未聚合光敏复合材料，留下来制备好的纳米光纤。本发明发明采用微流控双光子直写技术，能够制备超长且具有复杂曲率的三维纳米光纤。
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公开(公告)号：CN113064329A
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN202110321468.0
申请日：2021-03-25
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜，将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题，并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制，克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题；本系统通过结合光纤端超透镜，能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件，节约制备成本和时间。
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公开(公告)号：CN113031149A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110368228.6
申请日：2021-04-06
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。该系统包括三维打印装置、光学成像装置和控制器；将设计好的纳米光纤导入控制器中，通过光学成像装置对打印的纳米光纤进行实时监测，并且调整激光聚焦位置；三维打印装置将聚焦后的飞秒激光照射至空芯光纤中的光敏复合材料，引发双光子聚合为纳米光纤，在泵的驱动下，纳米光纤随着光敏复合材料流动至显影腔体内，在显影液作用下，去除多余未聚合光敏复合材料，留下来制备好的纳米光纤。本发明发明采用微流控双光子直写技术，能够制备超长且具有复杂曲率的三维纳米光纤。
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