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公开(公告)号:CN101104945A
公开(公告)日:2008-01-16
申请号:CN200710039633.3
申请日:2007-04-19
Applicant: 上海交通大学
IPC: C25D11/12
Abstract: 一种属于材料技术领域的具有厚阻挡层的阳极氧化铝薄膜的制备方法。包括如下第一步氧化:将未经退火和电化学抛光处理的铝箔放入以水或乙二醇为溶剂的酸性电解液中,以恒流或恒压的方式进行第一步阳极氧化,得到多孔阳极氧化铝薄膜;第二步氧化:将第一步阳极氧化制得的多孔阳极氧化铝薄膜在以水或乙二醇为溶剂的中性电解液中以恒流的方式进行第二步阳极氧化,直至达到击穿电压。利用本方法制备的氧化膜具有的高比表面积和厚阻挡层,使其同时拥有较大的静电电容和较高的击穿电压,在高性能铝电解电容器及其它微电子领域有着广泛的应用前景。
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