一种纳米铜酞菁薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101372757A

    公开(公告)日:2009-02-25

    申请号:CN200810200932.5

    申请日:2008-10-09

    Abstract: 本发明公开了一种纳米铜酞菁薄膜的制备方法。首先通过加入质子酸使铜酞菁发生质子化反应,然后加入有机溶液配成电解液,再用电沉积方法制备一种纳米铜酞菁薄膜。制备的一种纳米铜酞菁薄膜具有α相晶体结构,可通过调节铜酞菁溶液浓度、铜酞菁溶液温度、电压和电沉积时间来控制薄膜的形态和尺寸,所需的电压小(0.5~3V),时间短(5~60分钟),容易操作,成膜均匀,成本低,利于工业化生产。本发明可用于电导、传感、发光二极管、场效应晶体管和光电转化等领域。

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