公开(公告)号：CN116718620A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310780012.X

申请日：2023-06-29

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 方浩澜 ,  张祯 ,  陈娟 ,  洪志远 ,  王廷炎 ,  彭立明

IPC: G01N23/20008

Abstract: 本发明公开了一种超薄钯/镁基薄膜透射电镜样品及其制备方法，所述方法为先在超薄钯/镁基薄膜表面沉积一个碳氟高分子保护膜层，随后对于复合膜层利用聚焦离子束(FIB)完成透射电镜试样的加工过程。本方法利用氟碳高分子保护膜层对于金属膜层之间扩散的抑制作用，可减小聚焦离子束加工过程所需的Pt膜向待加工钯/镁基薄膜试样中的扩散，避免试样结构遭到破坏。该方法操作简便，且能显著消除Pt层对于待加工样品结构分析的干扰，在薄膜的透射显微分析领域具有重要的应用前景。

公开(公告)号：CN117187745A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202311100414.7

申请日：2023-08-30

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 张祯 ,  王廷炎 ,  陈娟 ,  张轶童 ,  彭立明 ,  刘鑫彩

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/18 ,  C23C14/20 ,  C23C14/35 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明公开了一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法，所述薄膜包括在基底上依次设置的AAO模板层、氢敏反应层、催化层和保护层。其制备方法为先向基底上转移AAO模板，随后在模板上溅射制备氢敏反应层，接着在氢敏反应层上原位生长催化层，最后在催化层上沉积保护层。本发明利用AAO模板透明的特点，通过AAO模板扩大氢致变色薄膜的比表面积，方便快捷地实现了氢致变色薄膜吸脱氢速率的提高。本方法工艺简单，可重复性强，性能提升明显，在氢气传感领域具有重要的应用前景。

公开(公告)号：CN116926488A

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN202310913322.4

申请日：2023-07-25

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 王廷炎 ,  陈娟 ,  张祯 ,  彭立明 ,  郭昊铭 ,  钟智邺 ,  方浩澜

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/14 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明公开了一种提升氢致变色镁基薄膜氢响应性能的制备方法，包括在采用磁控溅射制备镁基氢敏反应层过程中，调整磁控溅射工艺中的氩气流量为20sccm～100sccm的步骤。本发明利用磁控溅射过程中氩气流量的调控，可以影响溅射原子碰撞频率和平均自由程，从而改变薄膜生长条件，改变薄膜的显微结构，方便快捷地提高了氢致变色薄膜的吸脱氢速率。本方法工艺简单，可重复性强，性能提升显著，在氢气传感领域具有重要应用前景。

公开(公告)号：CN117187806A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202310910200.X

申请日：2023-07-24

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 方浩澜 ,  张祯 ,  陈娟 ,  王廷炎 ,  张轶童 ,  刘鑫彩 ,  陈哲 ,  彭立明

IPC: C23C28/00 ,  C23C14/35 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C14/18 ,  C23C14/20 ,  B82Y15/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/78

Abstract: 本发明公开了一种提升氢致变色镁基薄膜循环耐久性的方法，所述方法包括以下步骤：采用磁控溅射共溅射的方法在基底上生长镁‑X元素复合膜层，然后采用磁控溅射法制备钯催化层，最后采用等离子体气相沉积法制备氟碳膜；所述镁‑X元素复合膜层为通过在镁基中添加X元素所形成的复合膜层。本发明中Pd具有催化效应，在吸氢和脱氢阶段，可促进氢气与氢原子之间的可逆转换，而添加复合X元素与镁形成的化合物相可抑制Pd层和镁层之间的互扩散，有利于保持Pd的催化作用，进而提高复合膜层的吸放氢循环耐久性。此方法制备的调光薄膜循环性能好，工艺简单，在氢气传感领域具有重要的应用前景。