倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法

    公开(公告)号:CN1327501C

    公开(公告)日:2007-07-18

    申请号:CN200410053040.9

    申请日:2004-07-22

    Abstract: 一种倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法,将模板印刷法与选择性激光回流技术相结合制备倒装芯片的凸点,将金属模板置于芯片之上,将焊膏填入金属模板上的所有开孔,激光聚焦在金属模板开孔内,焊膏在激光作用下回流成金属凸点。在逐点制备倒装芯片上所有凸点的过程中,金属模板与芯片保持接触。本发明的方法适用于多种材料制备凸点,具有成本低廉,激光扫描速度快,单点成形时间短,凸点定位精度高,凸点参数可以自由设定的优点。本发明能有效避免因全局受热而造成的器件失效现象,尤其适合某些特殊器件封装,如热敏器件、光电器件。

    芯片封装中的磁性材料底部填充方法

    公开(公告)号:CN1276489C

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200410052865.9

    申请日:2004-07-15

    Inventor: 叶献方 丁汉

    Abstract: 一种芯片封装中的磁性材料底部填充方法,采用的填充材料中,以磁性微粉材料部分代替SiO2,在电磁扫描机构的一个扫描轴上安装一个电磁激励头,并将电磁激励头置于芯片的上方或者基底的下方,在滴胶填充过程中施加外部电磁力,激励电磁激励头始终处于填充材料的前沿位置沿着滴胶的方向扫描,引导磁性有机材料进行填充。本发明磁性填充材料制备容易,扫描机构简单,易于嵌入现有封装生产线,采用外部电磁力作用,使填充时间显著减少,不仅提高了封装效率,还能有效避免填充缺陷,提高器件可靠性。

    倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法

    公开(公告)号:CN1588634A

    公开(公告)日:2005-03-02

    申请号:CN200410053040.9

    申请日:2004-07-22

    Abstract: 一种倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法,将模板印刷法与选择性激光回流技术相结合制备倒装芯片的凸点,将金属模板置于芯片之上,将焊膏填入金属模板上的所有开孔,激光聚焦在金属模板开孔内,焊膏在激光作用下回流成金属凸点。在逐点制备倒装芯片上所有凸点的过程中,金属模板与芯片保持接触。本发明的方法适用于多种材料制备凸点,具有成本低廉,激光扫描速度快,单点成形时间短,凸点定位精度高,凸点参数可以自由设定的优点。本发明能有效避免因全局受热而造成的器件失效现象,尤其适合某些特殊器件封装,如热敏器件、光电器件。

    芯片封装中的磁性材料底部填充方法

    公开(公告)号:CN1588633A

    公开(公告)日:2005-03-02

    申请号:CN200410052865.9

    申请日:2004-07-15

    Inventor: 叶献方 丁汉

    Abstract: 一种芯片封装中的磁性材料底部填充方法,采用的填充材料中,以磁性微粉材料部分代替SiO2,在电磁扫描机构的一个扫描轴上安装一个电磁激励头,并将电磁激励头置于芯片的上方或者基底的下方,在滴胶填充过程中施加外部电磁力,激励电磁激励头始终处于填充材料的前沿位置沿着滴胶的方向扫描,引导磁性有机材料进行填充。本发明磁性填充材料制备容易,扫描机构简单,易于嵌入现有封装生产线,采用外部电磁力作用,使填充时间显著减少,不仅提高了封装效率,还能有效避免填充缺陷,提高器件可靠性。

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