公开(公告)号：CN100574905C

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200410046441.1

申请日：2004-05-31

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 坂井智嗣 ,  鹤我薰典 ,  山越英男 ,  栗林志头真 ,  团野实 ,  二见博 ,  山崎纪子

IPC: B08B7/00 ,  C03C23/00 ,  H01J61/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减，其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式，可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现：具有0.005毫托到20毫托范围的近真空区用于激发碳的氧化反应，所述近真空区面对所述光学系统的所述照明表面；在所述近真空区产生含氧原子离子或基，例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH-离子、臭氧、O2-离子、O-基；通过使含氧原子离子或基团与沉积的碳进行反应以消除或减少积聚在所述照明表面的积聚的碳。

公开(公告)号：CN101656187A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910170895.2

申请日：2004-05-31

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 坂井智嗣 ,  鹤我薰典 ,  山越英男 ,  栗林志头真 ,  团野实 ,  二见博 ,  山崎纪子

IPC: H01J61/00 ,  B08B7/00

Abstract: 本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减，其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式，可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现：产生具有活性能量存在的近真空区，以激发碳的氧化反应，其中所述近真空区面对所述光学系统的所述光线表面；在所述近真空区产生负离子或基团，例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH - 离子、臭氧、O 2 - 离子、O - 基；并通过沉积的碳与负离子或基团进行反应，消除或减少积聚在所述照明表面上的积聚的碳。

公开(公告)号：CN101656187B

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN200910170895.2

申请日：2004-05-31

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 坂井智嗣 ,  鹤我薰典 ,  山越英男 ,  栗林志头真 ,  团野实 ,  二见博 ,  山崎纪子

IPC: H01J61/00 ,  B08B7/00

Abstract: 本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减，其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式，可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现：产生具有活性能量存在的近真空区，以激发碳的氧化反应，其中所述近真空区面对所述光学系统的所述光线表面；在所述近真空区产生负离子或基团，例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH-离子、臭氧、O2-离子、O-基；并通过沉积的碳与负离子或基团进行反应，消除或减少积聚在所述照明表面上的积聚的碳。

公开(公告)号：CN1704180A

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN200410046441.1

申请日：2004-05-31

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 坂井智嗣 ,  鹤我薰典 ,  山越英男 ,  栗林志头真 ,  团野实 ,  二见博 ,  山崎纪子

IPC: B08B7/00 ,  C03C23/00 ,  H01J61/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减，其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式，可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现：产生具有活性能量存在的近真空区，以激发碳的氧化反应，其中所述近真空区面对所述光学系统的所述光线表面；在所述近真空区产生负离子或基团，例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH－离子、臭氧、O2－离子、O－基；并通过沉积的碳与负离子或基团进行反应，消除或减少积聚在所述照明表面上的积聚的碳。