公开(公告)号：CN105358491B

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201480037969.4

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(200)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO4离子、碳酸根离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)被分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸根离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏析晶而从第二浓缩水中被去除。

公开(公告)号：CN1129639C

公开(公告)日：2003-12-03

申请号：CN94100524.0

申请日：1994-01-20

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 长谷川繁夫 ,  嶋田隆文 ,  吉山隆士 ,  岩崎谦二 ,  西川达行 ,  川冈孝义

IPC: C08L23/10 ,  C09D151/06

CPC classification number: B05D7/54 ,  B05D7/14 ,  C09D123/10 ,  C09D123/12 ,  C09D151/06 ,  Y10T428/31692 ,  C08L2666/24 ,  C08L2666/04

Abstract: 一种金属用的衬里，一种衬里粉末和一种衬里树脂组合物，该组合物包含一种马来酸改性聚丙烯和聚丙烯的混合物，或者一种上述混合物和乙丙橡胶和/或一种抗氧化剂的混合物；以及一种加衬方法。

公开(公告)号：CN105339313B

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201480036187.9

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。

公开(公告)号：CN105377771B

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201480038042.2

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统(100)具备：第二脱盐部(210a、210b)，其将包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子以及SO4离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第二脱盐部(210a、210b)的下游侧，具有使石膏从浓缩水中析晶的第二析晶槽(221a、221b)以及向第二析晶槽(221a、221b)供给石膏的晶种的晶种供给部；以及分离部，其在析晶部的下游侧将石膏从浓缩水中分离。

公开(公告)号：CN103068480B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201180040378.9

申请日：2011-12-08

Applicant: 三菱重工业株式会社 ,  株式会社明治橡胶化成

Inventor： 辻内达也 ,  长安弘贡 ,  田中裕士 ,  平田琢也 ,  藤川圭司 ,  吉山隆士 ,  里祐一郎 ,  中川丰志 ,  大石刚司 ,  落合基道 ,  盐屋圭 ,  市川俊二 ,  小岛明宽

IPC: B01J19/32 ,  B01D53/18 ,  B01D53/38 ,  B01D53/58 ,  B01D53/62 ,  B01D53/68 ,  B01D53/77

CPC classification number: B01D53/18 ,  B01D3/28 ,  B01D53/1406 ,  B01D53/185 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/406 ,  B01D2257/504 ,  B01F3/04078 ,  B01J19/32 ,  B01J2219/32206 ,  B01J2219/32227 ,  B01J2219/32241 ,  B01J2219/32244 ,  B01J2219/32251 ,  B01J2219/32258 ,  B01J2219/32262 ,  B01J2219/32272 ,  B01J2219/32483 ,  B01J2219/3325

Abstract: 本发明的气液接触板（10）为处理液（12）从基板（11）的上侧向下侧方向流动、与处理液（12）接触的气体（13）的一部分被该处理液（12）吸收的气液接触板，基板（11）的下端部侧具备具有预定间隔的节距的下凸状的锯齿状部（14）。另外，在基板（11）上以预定间隔设置有多段液体分散用孔群（20）。其排列为交错状排列。

公开(公告)号：CN105358490A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480037826.3

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统包括：第一脱盐部，其将包括Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第一脱盐部的下游侧，且具有使石膏从浓缩水中析晶的第一析晶槽(21)与向第一析晶槽(21)供给石膏的晶种的晶种供给部(22)；第一pH计测部(543)，其对第一析晶槽(21)内的第一浓缩水的pH进行计测；以及控制部(24)，在由第一pH计测部(543)计测出的pH处于钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量降低，在由第一pH计测部(543)计测出的pH比pH范围高的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量增大。

公开(公告)号：CN105339313A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036187.9

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。

公开(公告)号：CN102471714A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080033636.6

申请日：2010-04-01

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 吉山隆士 ,  大本节男

IPC: C10L5/04 ,  C10B57/10 ,  C10L9/08 ,  C10L9/10

CPC classification number: C10B57/10 ,  C10B53/04 ,  C10B57/06 ,  C10F5/06 ,  C10L9/08 ,  C10L9/10

Abstract: 本发明涉及一种重整煤制造装置(100)，其具有：使低质煤(1)干燥的干燥器主体(111)等、对经过干燥的干燥煤(2)进行干馏的干馏器主体(120)等、以及对经过干馏的干馏煤(3)进行压缩成形的压缩机(131)等，其中，具有自由基捕捉剂供给器(117)，该自由基捕捉剂供给器(117)用于将包含具有羟基的有机化合物的自由基捕捉剂(102)供给到干燥用气体(101)中，使得低质煤(1)在包含所述自由基捕捉剂(102)的气氛中干燥，所述干燥用气体(101)由干燥用气体供给源(115)送入且经加热器(116)加热。

公开(公告)号：CN105377772A

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201480038059.8

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供一种能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(400)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)中被分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的第二浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏发生析晶而从第二浓缩水中被去除。

公开(公告)号：CN105358492A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480038013.6

申请日：2014-05-30

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 江田昌之 ,  冲野进 ,  吉山隆士 ,  樱井秀明 ,  鹈饲展行 ,  铃木英夫 ,  中小路裕 ,  吉冈茂

IPC: C02F9/00 ,  B01D9/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01D61/42 ,  B01D61/58 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/52 ,  C02F5/00 ,  C02F5/10 ,  C02F5/14

CPC classification number: C02F1/52 ,  B01D9/0036 ,  B01D19/0005 ,  B01D61/025 ,  B01D61/04 ,  B01D61/42 ,  B01D65/08 ,  B01D2311/04 ,  B01D2311/12 ,  B01D2311/18 ,  B01D2311/2642 ,  B01D2311/2649 ,  B01D2311/2657 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/4691 ,  C02F1/4693 ,  C02F1/5281 ,  C02F1/66 ,  C02F5/10 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/007 ,  C02F2001/5218 ,  C02F2101/10 ,  C02F2101/101 ,  C02F2103/023 ,  C02F2209/06 ,  Y02A20/128 ,  Y02A20/131 ,  Y02A20/132 ,  Y02A20/134

Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(1)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在脱盐部(10)中被分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在析晶部(20)中向浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在析晶部(20)的被处理水下游侧被从浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在脱盐部(10)的上游侧或者析晶部(20)的下游侧被从浓缩水中去除。