光学部件及激光加工机
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111630415A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201980008632.3

    申请日:2019-01-17

    Abstract: 光学部件具有:包括主面及在主面的背面侧形成的第二面的基板、和在主面及第二面中的至少主面形成的多层膜,基板至少含有Ge而形成,多层膜包含从接近基板的一侧起依次将氧化物膜、氟化物无定形膜、Ge膜和DLC膜的至少4层层叠而成的膜。由此,能够提供使耐热性提高、不因热的影响而使光学特性恶化、发挥稳定的光学性能的光学部件。

    光学部件及激光加工机
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109154678A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780028538.5

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 本发明提供一种光学部件,其特征在于,在Ge基板的至少单面,从该Ge基板侧起依次层叠有氟化物膜、Ge膜及类金刚石膜(DLC膜)。优选氟化物膜的膜厚为500nm~950nm,优选Ge膜的膜厚为50nm~150nm,优选DLC膜的膜厚为50nm~300nm。优选氟化物膜由从通过YF3、YbF3及MgF2构成的组选择的至少一种构成。

    光学部件及激光加工机
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111630415B

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN201980008632.3

    申请日:2019-01-17

    Abstract: 光学部件具有:包括主面及在主面的背面侧形成的第二面的基板、和在主面及第二面中的至少主面形成的多层膜,基板至少含有Ge而形成,多层膜包含从接近基板的一侧起依次将氧化物膜、氟化物无定形膜、Ge膜和DLC膜的至少4层层叠而成的膜。由此,能够提供使耐热性提高、不因热的影响而使光学特性恶化、发挥稳定的光学性能的光学部件。

    光学部件及激光加工机
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109154678B

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201780028538.5

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 本发明提供一种光学部件,其特征在于,在Ge基板的至少单面,从该Ge基板侧起依次层叠有氟化物膜、Ge膜及类金刚石膜(DLC膜)。优选氟化物膜的膜厚为500nm~950nm,优选Ge膜的膜厚为50nm~150nm,优选DLC膜的膜厚为50nm~300nm。优选氟化物膜由从通过YF3、YbF3及MgF2构成的组选择的至少一种构成。

    光学部件及激光加工机
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107710025A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680036058.9

    申请日:2016-05-09

    CPC classification number: B23K26/064 B23K26/382 G02B1/115 G02B1/14 H01S3/00

    Abstract: 一种光学部件,其在Ge基板的至少单面形成有多层膜,在该光学部件中,所述多层膜的最表层为类金刚石层(DLC层),在所述Ge基板和所述DLC层之间,形成有从由ZnS层及金属氧化物层构成的组中选择的至少1个层。优选与所述Ge基板相接的层从由ZnS层、Bi2O3层、CeO2层、Cr2O3层、Ta2O5层、HfO2层及ZrO2层构成的组中选择。优选与所述DLC层相接的层从由ZnS层、SiO层、MgO层、Y2O3层、Bi2O3层、CeO2层、Cr2O3层、Ta2O5层、TiO2层、HfO2层及ZrO2层构成的组中选择。

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