公开(公告)号：CN103189966B

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201280003421.9

申请日：2012-03-15

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 西本阳一郎 ,  安永望 ,  松田高好

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/304 ,  H01L31/04

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/50

Abstract: 包括：用含有金属离子的、氧化剂和氢氟酸的混合水溶液蚀刻硅基板的表面，在上述硅基板的表面形成多孔层的第1工序；用以氢氟酸和硝酸为主的混酸蚀刻上述多孔层的孔，在上述硅基板的表面形成纹理的第2工序；用碱药液蚀刻形成了上述纹理的硅基板的表面的第3工序；和用含有臭氧的水处理采用上述碱药液蚀刻的硅基板，在形成于该硅基板的上述孔的内部产生气泡，将上述孔的内部的金属和有机物的杂质除去的第4工序。

公开(公告)号：CN110419113A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201780085843.8

申请日：2017-03-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 松田高好

IPC: H01L31/048 ,  H01L31/05

Abstract: 太阳能电池模块具备：受光面侧保护部件；背面侧保护部件；太阳能电池串，用单元间接片将多个太阳能电池单元(3)串联地电连接而成；横接片，将多个太阳能电池串彼此串联地电连接；以及输出接片，从太阳能电池串向背面侧保护部件的外侧取出输出。太阳能电池模块具备：密封层，将太阳能电池串夹持于受光面侧保护部件与背面侧保护部件之间；绝缘片材(72)，使输出接片和横接片绝缘；设计片材(74)，配置于绝缘片材(72)的背面侧，覆盖太阳能电池串的外周侧；第1中间密封层(71)，配置于横接片与绝缘片材之间；以及第2中间密封层(73)，配置于绝缘片材与设计片材(74)之间。

公开(公告)号：CN108604610A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201680054758.0

申请日：2016-02-03

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 松田高好 ,  田中清俊 ,  中园慎治

IPC: H01L31/048

Abstract: 太阳能电池模块(10)具备：透光性基板(1)，使光透射；表面密封件(2)，位于透光性基板(1)的外部的使入射到透光性基板(1)的光透射的一侧，由烯烃系树脂构成；光伏元件(3)，位于以表面密封件(2)为基准而与透光性基板(1)所处的一侧相反的一侧，具有在构成电极的成分中除了玻璃成分以外的成分中包含摩尔比75％以上的银和0.001％以上且25％以下的铝的受光面侧电极(31)；背面密封件(4)，位于以光伏元件(3)为基准而与表面密封件(2)所处的一侧相反的一侧；以及背板(5)，位于以背面密封件(4)为基准而与光伏元件(3)所处的一侧相反的一侧。

公开(公告)号：CN107743657A

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201580080897.6

申请日：2015-06-17

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 井上洋介 ,  松田高好 ,  长谷川裕树 ,  石垣辰也

IPC: H01L31/048 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L31/049 ,  H01L31/02008 ,  H01L31/048 ,  H01L31/0481 ,  H01L31/18 ,  H02S50/00 ,  Y02E10/50

Abstract: 太阳能电池模块(10)具备：光透射性基板(1)，配置于受光面侧；背膜(4)，配置于背侧；密封层(2)，由具有光透射性的树脂构成，介于所述光透射性基板(1)与所述背膜(4)之间。太阳能电池模块(10)具备：多个太阳能电池单元，被密封于所述密封层(2)之中；识别用标签片(5)，在所述光透射性基板(1)的面方向上的与所述太阳能电池单元不同的区域，在所述密封层(2)之中被密封，由记载有识别用管理信息的树脂构成；以及保护片(6)，层叠于所述识别用标签片(5)的所述光透射性基板(1)侧，在所述密封层(2)之中被密封，由具有光透射性的树脂构成，含有紫外线吸收剂。所述保护片(6)相比于所述密封层(2)中的、在所述密封层(2)的厚度方向上比所述太阳能电池单元的受光面靠所述光透射性基板(1)侧配置的受光面侧密封层(2a)，每相同厚度的紫外线吸收特性大。

公开(公告)号：CN103189966A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201280003421.9

申请日：2012-03-15

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 西本阳一郎 ,  安永望 ,  松田高好

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/304 ,  H01L31/04

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/18 ,  Y02E10/50

Abstract: 包括：用含有金属离子的、氧化剂和氢氟酸的混合水溶液蚀刻硅基板的表面，在上述硅基板的表面形成多孔层的第1工序；用以氢氟酸和硝酸为主的混酸蚀刻上述多孔层的孔，在上述硅基板的表面形成纹理的第2工序；用碱药液蚀刻形成了上述纹理的硅基板的表面的第3工序；和用含有臭氧的水处理采用上述碱药液蚀刻的硅基板，在形成于该硅基板的上述孔的内部产生气泡，将上述孔的内部的金属和有机物的杂质除去的第4工序。