公开(公告)号：CN1412620A

公开(公告)日：2003-04-23

申请号：CN02123288.1

申请日：2002-06-14

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 中尾修治 ,  宫本由纪 ,  玉田尚久 ,  前岛伸六

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/16 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/44 ,  G03F1/50 ,  G06K7/0095

Abstract: 本发明的焦点监测用光掩模5包括透过曝光光的基板5a和聚焦监测用单元掩模结构Q。焦点监测用单元掩模结构Q具有在基板5a的表面上形成的2个位置测量用图形5b1、5b2，以及在基板5a的背面形成的、而且具有使对2个位置测量用图形5b1、5b2的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形5d的遮光膜5c。当假定背面图形5d的尺寸为L，曝光光的波长为λ时，L/λ为10以上。