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发明公开
铈化合物除去用清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN114746986A

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202080082908.5

申请日：2020-11-20

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 安龙杰 , 草野智博 , 小野由香子 , 竹下宽 , 清野健一

IPC: H01L21/304 , C11D17/08 , C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/36

Abstract: 本发明涉及一种硅氧化膜和/或硅氮化膜上的铈化合物除去用清洗液，其包含成分(A)和作为还原剂的成分(B)，成分(A)为选自由下述式(1)所表示的化合物及其衍生物、下述式(2)所表示的化合物及其衍生物、下述式(3)所表示的化合物及其衍生物以及下述式(4)所表示的化合物及其衍生物组成的组中的至少一种化合物。(上述式中，R1～R12和n分别与说明书中记载的定义相同。)。

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