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公开(公告)号：CN101164945A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200610140949.7
申请日：2006-10-17
Applicant: 三福化工股份有限公司
Inventor： 谢育和
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明是有关一种玻璃基板均匀薄化装置，主要包含一蚀刻循环槽、一基板固定机构以及一柏努利振荡机构。该蚀刻循环槽，是用以容纳与更新玻璃蚀刻液。该基板固定机构，是用以固定复数个玻璃基板于该蚀刻循环槽内。该柏努利振荡机构，是连接该基板固定机构，以使在该蚀刻循环槽内的玻璃基板作各式振荡动作。本发明可以达到均匀蚀刻密集排列的玻璃基板，并减少氢氟酸气化量。
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