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公开(公告)号：CN102653451A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201110051027.X
申请日：2011-03-01
Applicant: 三福化工股份有限公司
Inventor： 王耀铭
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明是有关于一种玻璃基板连续结晶式化学蚀刻方法与设备。在化学蚀刻过程中持续使蚀刻液由蚀刻槽输送到结晶槽，并保持蚀刻液在结晶槽内的温度低于在蚀刻槽内的温度，使溶解的蚀刻反应生成物在结晶槽内结晶。未沉降的结晶在流入加热装置先以过滤器滤出，再在加热装置中回复蚀刻液温度与浓度，再导入蚀刻槽进行蚀刻。加热方式包含外部热源及(或)浓蚀刻液补充时的稀释热，特别是以利用稀释热方式进行升温。因此，可达到连续结晶下蚀刻的目的，并避免蚀刻液在蚀刻槽内生成结晶而产生水波纹，进而提升玻璃基板的外观质量。
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