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公开(公告)号：CN101010421A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580029195.1
申请日：2005-08-30
Applicant: 三洋化成工业株式会社
IPC: C11D1/02 , C23G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: C11D1/04 , C11D1/143 , C11D1/146 , C11D1/22 , C11D1/342 , C11D1/345 , C11D1/37 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供基本上不使用碱金属，在洗涤时对微细化的颗粒的再附着防止性优异、可以进行极高效率洗涤的表面活性剂。本发明使用以由中和盐(AB1)和/或中和盐(AB2)组成为特征的表面活性剂。中和盐(AB1)：是具有酸解离反应的生成热变化为3～200kcal/mol的酸的酸根(X1)和碳数1～36的疏水基(Y)分别至少1个的酸性化合物(A1)与质子加合反应的生成热变化为10～152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB1)，(X1)为选自磺酸根等基团中至少1种的中和盐，中和盐(AB2)：是分子内具有至少1个酸根(X2)的聚合物(A2)与质子加合反应的生成热变化为10～152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB2)。
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公开(公告)号：CN103619982A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280031168.8
申请日：2012-06-27
Applicant: 三洋化成工业株式会社
Inventor： 山口俊一郎
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及在使用研磨垫来研磨电子材料中间体的工序中使用的特定中和盐(AB)、含有该中和盐(AB)的电子材料用研磨液、使用该电子材料用研磨液来研磨电子材料中间体的研磨方法、以及包括利用该研磨方法来研磨电子材料中间体的工序的电子材料的制造方法。此处，中和盐(AB)为酸性化合物(A)与含氮碱性化合物(B)的盐，所述酸性化合物(A)在分子内具有至少1个酸基(X)，所述含氮碱性化合物(B)在质子加成反应中的生成热变化(Q2)为10kcal/mol～152kcal/mol，上述酸基(X)在酸解离反应中的生成热变化(Q1)为3kcal/mol～200kcal/mol。与以往的研磨液相比，本发明具有下述效果：刮痕等基板缺陷少，并且在清洗工序中容易除去研磨屑，进而在研磨工序中的研磨速度的持续性优异。
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公开(公告)号：CN103619982B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201280031168.8
申请日：2012-06-27
Applicant: 三洋化成工业株式会社
Inventor： 山口俊一郎
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及在使用研磨垫来研磨电子材料中间体的工序中使用的特定中和盐(AB)、含有该中和盐(AB)的电子材料用研磨液、使用该电子材料用研磨液来研磨电子材料中间体的研磨方法、以及包括利用该研磨方法来研磨电子材料中间体的工序的电子材料的制造方法。此处，中和盐(AB)为酸性化合物(A)与含氮碱性化合物(B)的盐，所述酸性化合物(A)在分子内具有至少1个酸基(X)，所述含氮碱性化合物(B)在质子加成反应中的生成热变化(Q2)为10kcal/mol～152kcal/mol，上述酸基(X)在酸解离反应中的生成热变化(Q1)为3kcal/mol～200kcal/mol。与以往的研磨液相比，本发明具有下述效果：刮痕等基板缺陷少，并且在清洗工序中容易除去研磨屑，进而在研磨工序中的研磨速度的持续性优异。
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公开(公告)号：CN102449160B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201080022785.2
申请日：2010-05-26
Applicant: 三洋化成工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在表面活性剂的存在下使用大肠杆菌等细菌在工业规模下生产有用物质(蛋白质等)的生产方法以及在该有用物质生产方法中使用的表面活性剂。本发明所涉及的有用物质生产方法和在该有用物质生产方法中使用的表面活性剂中，所述有用物质生产方法通过培养液中所含的细菌将有用物质分泌生产到培养液中，所述培养液中含有表面活性剂(A)，以培养液的体积为基准的干燥菌体密度为1.5g/L～500g/L。进一步优选的有用物质生产方法中，表面活性剂(A)为选自由两性表面活性剂、阴离子型表面活性剂和HLB为0～13的非离子型表面活性剂组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN102449160A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080022785.2
申请日：2010-05-26
Applicant: 三洋化成工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在表面活性剂的存在下使用大肠杆菌等细菌在工业规模下生产有用物质(蛋白质等)的生产方法以及在该有用物质生产方法中使用的表面活性剂。本发明所涉及的有用物质生产方法和在该有用物质生产方法中使用的表面活性剂中，所述有用物质生产方法通过培养液中所含的细菌将有用物质分泌生产到培养液中，所述培养液中含有表面活性剂(A)，以培养液的体积为基准的干燥菌体密度为1.5g/L～500g/L。进一步优选的有用物质生产方法中，表面活性剂(A)为选自由两性表面活性剂、阴离子型表面活性剂和HLB为0～13的非离子型表面活性剂组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN101010421B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200580029195.1
申请日：2005-08-30
Applicant: 三洋化成工业株式会社
IPC: C11D1/02 , C23G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: C11D1/04 , C11D1/143 , C11D1/146 , C11D1/22 , C11D1/342 , C11D1/345 , C11D1/37 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供基本上不使用碱金属，在洗涤时对微细化的颗粒的再附着防止性优异、可以进行极高效率洗涤的表面活性剂。本发明使用以由中和盐(AB1)和/或中和盐(AB2)组成为特征的表面活性剂。中和盐(AB1)：是具有酸解离反应的生成热变化为3～200kcal/mol的酸的酸根(X1)和碳数1～36的疏水基(Y)分别至少1个的酸性化合物(A1)与质子加合反应的生成热变化为10～152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB1)，(X1)为选自磺酸根等基团中至少1种的中和盐，中和盐(AB2)：是分子内具有至少1个酸根(X2)的聚合物(A2)与质子加合反应的生成热变化为10～152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB2)。
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