公开(公告)号：CN102233542B

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201110116264.X

申请日：2011-05-03

Applicant: 三星电子株式会社 ,  K.C.科技股份有限公司

Inventor： 夫在弼 ,  金东秀 ,  徐建植 ,  全灿云 ,  潘俊昊 ,  具滋铁

IPC: B24B37/04

CPC classification number: B24B37/345 ,  B24B37/30

Abstract: 本发明涉及一种化学机械研磨设备、方法及系统，该化学机械研磨系统包含：至少一个研磨压板，以可旋转方式予以安装，其中，压板垫装配于该至少一个研磨压板的上部表面上；导轨，沿着预定的路径予以安置；基板载体单元，包括用以在研磨程序期间向下按压基板的旋转式管套，该基板载体单元在装载有该基板时沿着该导轨移动；衔接单元，经安装以衔接至该基板载体单元，以便在该基板载体单元定位于该研磨压板上方时，将空气压力供应至向下按压由基板载体单元固持的基板的旋转式管套，因此，即使移动该基板载体单元以在该复数个研磨压板上连续地研磨该基板，该基板载体单元也实质上消除由该基板载体单元的移动所引起的空气压力供应管的扭转的现象。

公开(公告)号：CN102240962B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110126106.2

申请日：2011-05-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  K.C.科技股份有限公司

Inventor： 徐建植 ,  夫在弼 ,  金东秀 ,  具滋铁 ,  全灿云 ,  潘俊昊

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B49/16

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨设备的调节器及调节方法，该化学机械研磨设备用于在旋转的压板垫上研磨基板。该调节器包括圆盘固定器、活塞杆、外壳及负载传感器。该圆盘固定器紧固精细地切割该压板垫的表面的调节圆盘。该活塞杆将轴向力递送至该圆盘固定器。该外壳覆盖该活塞杆的至少一部分。该负载传感器经安装以接收该活塞杆递送至该活塞杆的该轴向力且测量该轴向力。

公开(公告)号：CN102240962A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN201110126106.2

申请日：2011-05-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  K.C.科技股份有限公司

Inventor： 徐建植 ,  夫在弼 ,  金东秀 ,  具滋铁 ,  全灿云 ,  潘俊昊

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B49/16

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨设备的调节器及调节方法，该化学机械研磨设备用于在旋转的压板垫上研磨基板。该调节器包括圆盘固定器、活塞杆、外壳及负载传感器。该圆盘固定器紧固精细地切割该压板垫的表面的调节圆盘。该活塞杆将轴向力递送至该圆盘固定器。该外壳覆盖该活塞杆的至少一部分。该负载传感器经安装以接收该活塞杆递送至该活塞杆的该轴向力且测量该轴向力。

公开(公告)号：CN102233542A

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN201110116264.X

申请日：2011-05-03

Applicant: 三星电子株式会社 ,  K.C.科技股份有限公司

Inventor： 夫在弼 ,  金东秀 ,  徐建植 ,  全灿云 ,  潘俊昊 ,  具滋铁

IPC: B24B37/00

CPC classification number: B24B37/345 ,  B24B37/30

Abstract: 本发明涉及一种化学机械研磨设备、方法及系统，该化学机械研磨系统包含：至少一个研磨压板，以可旋转方式予以安装，其中，压板垫装配于该至少一个研磨压板的上部表面上；导轨，沿着预定的路径予以安置；基板载体单元，包括用以在研磨程序期间向下按压基板的旋转式管套，该基板载体单元在装载有该基板时沿着该导轨移动；衔接单元，经安装以衔接至该基板载体单元，以便在该基板载体单元定位于该研磨压板上方时，将空气压力供应至向下按压由基板载体单元固持的基板的旋转式管套，因此，即使移动该基板载体单元以在该复数个研磨压板上连续地研磨该基板，该基板载体单元也实质上消除由该基板载体单元的移动所引起的空气压力供应管的扭转的现象。