公开(公告)号：CN110468389A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201910112028.7

申请日：2019-02-13

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 黄善龙 ,  金贤洙 ,  李殷沃 ,  金泽中 ,  卢孝贞 ,  柳志元

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C14/50 ,  H01L21/67

摘要： 提供了一种沉积设备。所述沉积设备包括：反应腔室，包括上板和容器主体，上板包括用于注入处理气体的气体供应件；晶圆卡盘，包括用于在其上装载晶圆的上表面，位于反应腔室中，并且晶圆卡盘的上表面面对上板；以及处理气体遮蔽部，在晶圆从晶圆卡盘去除的状态下，防止处理气体被吸附到晶圆卡盘的上表面并且设置在上板和晶圆卡盘之间。处理气体遮蔽部包括板状的挡板，挡板包括具有用于朝向晶圆卡盘喷射吹扫气体的气体排放部分的区域。

公开(公告)号：CN110468389B

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN201910112028.7

申请日：2019-02-13

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 黄善龙 ,  金贤洙 ,  李殷沃 ,  金泽中 ,  卢孝贞 ,  柳志元

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C14/50 ,  H01L21/67

摘要： 提供了一种沉积设备。所述沉积设备包括：反应腔室，包括上板和容器主体，上板包括用于注入处理气体的气体供应件；晶圆卡盘，包括用于在其上装载晶圆的上表面，位于反应腔室中，并且晶圆卡盘的上表面面对上板；以及处理气体遮蔽部，在晶圆从晶圆卡盘去除的状态下，防止处理气体被吸附到晶圆卡盘的上表面并且设置在上板和晶圆卡盘之间。处理气体遮蔽部包括板状的挡板，挡板包括具有用于朝向晶圆卡盘喷射吹扫气体的气体排放部分的区域。