公开(公告)号：CN1227389C

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：CN98120050.8

申请日：1998-09-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵圣範 ,  金学弼 ,  辛银姬 ,  崔百洵

IPC: C23F1/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H01J37/32963 ,  Y10S438/905

Abstract: 本发明的现场监视等离子体腐蚀装置包括：工艺室，使用等离子体在其中进行腐蚀工艺；工艺气体提供装置，将工艺气体提供到工艺室内；废气排气装置，工艺室完成工艺后使用泵装置除去废气；采样管，连接到工艺室使用压力差采样工艺室内的气体；和气体分析仪，用于分析来自采样管的采样气体。工艺气体为从采样管连接采样的，并检测腐蚀和清洁工艺的优化工艺方法。

公开(公告)号：CN1221807A

公开(公告)日：1999-07-07

申请号：CN98120050.8

申请日：1998-09-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵圣範 ,  金学弼 ,  辛银姬 ,  崔百洵

IPC: C23F1/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H01J37/32963 ,  Y10S438/905

Abstract: 本发明的现场监视等离子体腐蚀装置包括:工艺室,使用等离子体在其中进行腐蚀工艺;工艺气体提供装置,将工艺气体提供到工艺室内;废气排气装置,工艺室完成工艺后使用泵装置除去废气;采样管,连接到工艺室使用压力差采样工艺室内的气体;和气体分析仪,用于分析来自采样管的采样气体。工艺气体为从采样管连接采样的,并检测腐蚀和清洁工艺的优化工艺方法。