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公开(公告)号：CN119356016A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202410478256.7
申请日：2024-04-19
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 禹相和 , 金佑锡 , 金奉槿 , 李尚和
IPC: G03F1/36 , G03F7/20
Abstract: 提供了一种光学邻近校正(OPC)方法和使用OPC方法的掩模制造方法，所述OPC方法包括：接收要在衬底上形成的目标图案的设计布局；通过对所述设计布局执行基线OPC来获得第一OPC图案；以及通过将所述第一OPC图案曲线化来获得第二OPC图案。
