公开(公告)号：CN103765557A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201180073030.X

申请日：2011-08-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 方祥圭 ,  田镇旭 ,  韩炅燉 ,  石种旭 ,  韩成日

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C30B25/12 ,  C23C16/44 ,  C30B25/02 ,  C30B25/08 ,  C30B25/14

Abstract: 提供了一种气相沉积设备。根据本发明的气相沉积设备可以包括：反应腔室，在该反应腔室中，在晶圆上沉积并且生长外延薄膜，该反应腔室具有可旋转的基座，在该基座上安装晶圆；外壳，在其中布置所述反应腔室，该外壳具有可开启的窗口，使得能够将晶圆装载到反应腔室中或者从反应腔室移出；以及排气装置，用于将外壳内的气体排出到外部以调节内部压力。