公开(公告)号：CN101013219B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200610148645.5

申请日：2006-11-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金圣雄 ,  金佑植 ,  车泰运 ,  裵纪德 ,  金晟镇 ,  辛承柱 ,  白锡淳

IPC: G02F1/1335 ,  G03F7/20 ,  G02B5/23

Abstract: 根据本发明提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。

公开(公告)号：CN101013219A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200610148645.5

申请日：2006-11-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金圣雄 ,  金佑植 ,  车泰运 ,  裵纪德 ,  金晟镇 ,  辛承柱 ,  白锡淳

IPC: G02F1/1335 ,  G03F7/20 ,  G02B5/23

Abstract: 根据本发明提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。