公开(公告)号：CN101377625A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200810214923.1

申请日：2008-08-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李祥熙 ,  崔振

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T156/1744

Abstract: 一种用于安装护膜的装置和方法，包括护膜压缩板，形成该护膜压缩板以将多个特定压力施加到护膜的护膜框架接触刻线处的刻线区域的多个点或区上。

公开(公告)号：CN104423179B

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201410418906.5

申请日：2014-08-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  李祥熙

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明公开了一种使用电子束的图案化方法和被配置为执行所述方法的曝光系统。所述图案化方法可采用诸如电子束(E‑束)的粒子束以及曝光系统，所述图案化方法可包括：准备限定E‑束的空间分布的曝光布置；基于曝光布置对掩模层执行E‑束曝光工艺；对掩模层执行显影工艺，以形成包括第一图案的掩模图案。第一图案可以是单个固体图案，曝光布置可包括与针对与第一图案对应的第一区域限定的多个E‑束条件关联的第一数据。

公开(公告)号：CN104423179A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201410418906.5

申请日：2014-08-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  李祥熙

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明公开了一种使用电子束的图案化方法和被配置为执行所述方法的曝光系统。所述图案化方法可采用诸如电子束(E-束)的粒子束以及曝光系统，所述图案化方法可包括：准备限定E-束的空间分布的曝光布置；基于曝光布置对掩模层执行E-束曝光工艺；对掩模层执行显影工艺，以形成包括第一图案的掩模图案。第一图案可以是单个固体图案，曝光布置可包括与针对与第一图案对应的第一区域限定的多个E-束条件关联的第一数据。