公开(公告)号：CN103329249B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201180061432.8

申请日：2011-12-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金俊佑 ,  竹谷元伸 ,  许寅会 ,  金秋浩 ,  李在凤

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45502 ,  C23C16/303 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/4584 ,  C30B25/12 ,  C30B25/14 ,  C30B29/406 ,  H01L33/007 ,  H01L33/48 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/49107 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/00014

Abstract: 提供了化学气相沉积设备和使用该设备制造发光器件的方法。根据本发明一个实施例的化学气相沉积设备包括：腔体，其包括具有至少一个凹穴部分的基座，凹穴部分将晶片安放在其中；腔盖，其布置在腔体上以开放/关闭腔体，并且在基座与腔盖之间形成反应空间；反应气体供给部，其向反应空间提供反应气体以使反应气体沿基座的表面流过；以及非反应气体供给部，其向反应空间提供非反应气体以使非反应气体沿腔盖在反应空间中位于基座与腔盖之间的表面流过，从而防止反应气体与腔盖的表面接触。

公开(公告)号：CN103329249A

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201180061432.8

申请日：2011-12-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金俊佑 ,  竹谷元伸 ,  许寅会 ,  金秋浩 ,  李在凤

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45502 ,  C23C16/303 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/4584 ,  C30B25/12 ,  C30B25/14 ,  C30B29/406 ,  H01L33/007 ,  H01L33/48 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/49107 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/00014

Abstract: 本发明提供了化学气相沉积设备和使用该设备制造发光器件的方法。根据本发明一个实施例的化学气相沉积设备包括：腔体，其包括具有至少一个凹穴部分的基座，凹穴部分将晶片安放在其中；腔盖，其布置在腔体上以开放/关闭腔体，并且在基座与腔盖之间形成反应空间；反应气体供给部，其向反应空间提供反应气体以使反应气体沿基座的表面流过；以及非反应气体供给部，其向反应空间提供非反应气体以使非反应气体沿腔盖在反应空间中位于基座与腔盖之间的表面流过，从而防止反应气体与腔盖的表面接触。