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发明公开
用于化学机械抛光装置的清洁器审中-公开

公开(公告)号：CN118238069A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311767534.2

申请日：2023-12-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李柱奉 , 金钟洙 , 朴成龙 , 朴凤基 , 朴银善 , 朴玄浚 , 崔虎燮

IPC: B24B53/017 , B24B49/12

Abstract: 一种用于CMP装置的清洁器包括清洁体、多个清洁喷嘴、视觉系统和控制器。清洁体可以布置在配置为保持基板的CMP装置的抛光头下方。清洁体可以被配置为接收用于清洁抛光头的清洁溶液。清洁喷嘴可以布置在清洁体处以将清洁溶液喷射到抛光头。视觉系统可以对清洁溶液可喷射到其的抛光头拍照以获得抛光头的图像。控制器可以基于抛光头的图像单独地控制从清洁喷嘴喷射的清洁溶液的量。因此，在基板处不会产生由缺陷引起的划痕。

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